Nové nízkoteplotní plazmatické technologie depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku

Poskytovatel

Akademie věd České republiky

Program

Program podpory cíleného výzkumu a vývoje

Veřejná soutěž

Program podpory cíleného výzkumu a vývoje 2 (SAV02002-S)

Hlavní účastníci

Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.

Druh soutěže

VS - Veřejná soutěž

Číslo smlouvy

—

Název projektu anglicky

New low temperature plasmatic technologies of thin films deposition at atmospheric pressure

Anotace anglicky

Proposed project will be devoted to applied research and development of the new environmentally safe plasmatic technologies of thin films at the low temperatures of the substrate T< 80 deg C. New systems with plasma jets working at atmospheric pressureswill be developed. Although research and development deals with these problems, this technology was not satisfactory mastered up to now. Main effort will be concentrated on the optically transparent thin oxide films deposited on plastic substrates. Particularly, it will be deposited doped ZnO, In2O3:Sn thin films and others similar which are suitable and required in industry applications. The next kind of deposited materials will be anti corrosive barrier coatings of aluminum alloys by Al2O3 and CeO2 films. 'In situ' measurement of plasma parameters and thin films properties will be correlated in order to optimize the deposition process.

Kategorie VaV

NV - Neprůmyslový výzkum (aplikovaný výzkum s výjimkou průmyslového)

CEP - hlavní obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

CEP - vedlejší obor

JK - Koroze a povrchové úpravy materiálu

CEP - další vedlejší obor

JB - Senzory, čidla, měření a regulace

OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)<br>20201 - Electrical and electronic engineering<br>20506 - Coating and films

Hodnocení poskytovatelem

V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

Zhodnocení výsledků projektu

V rámci projektu byla vyvinuta plazmatická technologie depozice tenkých vrstev za nízké teploty a atmosférikého tlaku. Ta byla aplikována na depozici SnO, ITO a ZnO na polymerové substráty a depozici vrstev CeO2, Al2O3 a TiO2 na kovy.

Zahájení řešení

1. 1. 2002

Ukončení řešení

1. 1. 2005

Poslední stav řešení

U - Ukončený projekt

Poslední uvolnění podpory

—

Důvěrnost údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Systémové označení dodávky dat

CEP06-AV0-IB-U/01:1

Datum dodání záznamu

19. 6. 2006

Celkové uznané náklady

9 162 tis. Kč

Výše podpory ze státního rozpočtu

4 920 tis. Kč

Ostatní veřejné zdroje financování

4 242 tis. Kč

Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

0 tis. Kč