In?uence of substrate material on plasma in deposition/sputtering reactor: experiment and computer simulation

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00177016%3A_____%2F08%3A%230000300" target="_blank" >RIV/00177016:_____/08:#0000300 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

In?uence of substrate material on plasma in deposition/sputtering reactor: experiment and computer simulation

Popis výsledku v původním jazyce

The aim of this work was to investigate the in?uence of the substrate material on the plasma enhanced chemical vapour deposition and the plasma sputtering of thin ?lms in low pressure (3?20 Pa) parallel-plate radio frequency (rf) discharges. It was observed that the deposition or sputtering rates differed above different materials, e.g. above a substrate and substrate electrode. Moreover, the substrates placed on the bottom rf electrode seemed to be mirrored in the thickness of a thin ?lm deposited or sputtered on the upper grounded electrode. The in?uence of the substrate material on the plasma parameters was studied via particle in cell/Monte Carlo computer simulation. According to our ?nding the mirroring of the substrate was caused by different secondary electron emission yields of the substrate material and material of the substrate electrode.

Název v anglickém jazyce

In?uence of substrate material on plasma in deposition/sputtering reactor: experiment and computer simulation

Popis výsledku anglicky

The aim of this work was to investigate the in?uence of the substrate material on the plasma enhanced chemical vapour deposition and the plasma sputtering of thin ?lms in low pressure (3?20 Pa) parallel-plate radio frequency (rf) discharges. It was observed that the deposition or sputtering rates differed above different materials, e.g. above a substrate and substrate electrode. Moreover, the substrates placed on the bottom rf electrode seemed to be mirrored in the thickness of a thin ?lm deposited or sputtered on the upper grounded electrode. The in?uence of the substrate material on the plasma parameters was studied via particle in cell/Monte Carlo computer simulation. According to our ?nding the mirroring of the substrate was caused by different secondary electron emission yields of the substrate material and material of the substrate electrode.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2008

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Physics D

ISSN

0022-3727

e-ISSN

—

Svazek periodika

41

Číslo periodika v rámci svazku

05

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—