Time-resolved investigation of dual high power impulse magnetron sputtering with closed magnetic field during deposition of Ti-Cu thin films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F10%3A10071477" target="_blank" >RIV/00216208:11320/10:10071477 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/68378271:_____/10:00357100

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Time-resolved investigation of dual high power impulse magnetron sputtering with closed magnetic field during deposition of Ti-Cu thin films

Popis výsledku v původním jazyce

Time-resolved comparative study of dual magnetron sputtering dual-MS_ and dual high power impulse magnetron sputtering dual-HiPIMS systems arranged with closed magnetic field is presented.

Název v anglickém jazyce

Time-resolved investigation of dual high power impulse magnetron sputtering with closed magnetic field during deposition of Ti-Cu thin films

Popis výsledku anglicky

Time-resolved comparative study of dual magnetron sputtering dual-MS_ and dual high power impulse magnetron sputtering dual-HiPIMS systems arranged with closed magnetic field is presented.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2010

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Applied Physics

ISSN

0021-8979

e-ISSN

—

Svazek periodika

108

Číslo periodika v rámci svazku

4

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000281857100027

EID výsledku v databázi Scopus

—