Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Time-Resolved Diagnostics of Dual High Power Impulse Magnetron Sputtering With Pulse Delays of 15 us and 500 us

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F11%3A10108240" target="_blank" >RIV/00216208:11320/11:10108240 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1002/ctpp.201000065" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/ctpp.201000065</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1002/ctpp.201000065" target="_blank" >10.1002/ctpp.201000065</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Time-Resolved Diagnostics of Dual High Power Impulse Magnetron Sputtering With Pulse Delays of 15 us and 500 us

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Time-resolved measurements have been performed during dual High Power Impulse Magnetron Sputtering (dual-HiPIMS) with two cathodes in a closed magnetic field configuration. The effect of a delay between subsequent pulses on electron density, mean electron energy, and ion flux to the substrate was investigated by time-resolved diagnostic methods. Two different delays of 15 mu s and 500 mu s between subsequent pulses were investigated. The dual-HiPIMS system, operated at a repetition frequency f = 100 Hzand duty cycle of 1 %, was equipped with different metallic targets (Ti, Cu). It is shown that a delay between subsequent pulses influences the plasma parameters and can be used to control deposition processes. It was noted that target surfaces (alternately serving as a cathode/anode) are contaminated by sputtered material from the previous pulse which influences the time-evolution of the discharge parameters.

  • Název v anglickém jazyce

    Time-Resolved Diagnostics of Dual High Power Impulse Magnetron Sputtering With Pulse Delays of 15 us and 500 us

  • Popis výsledku anglicky

    Time-resolved measurements have been performed during dual High Power Impulse Magnetron Sputtering (dual-HiPIMS) with two cathodes in a closed magnetic field configuration. The effect of a delay between subsequent pulses on electron density, mean electron energy, and ion flux to the substrate was investigated by time-resolved diagnostic methods. Two different delays of 15 mu s and 500 mu s between subsequent pulses were investigated. The dual-HiPIMS system, operated at a repetition frequency f = 100 Hzand duty cycle of 1 %, was equipped with different metallic targets (Ti, Cu). It is shown that a delay between subsequent pulses influences the plasma parameters and can be used to control deposition processes. It was noted that target surfaces (alternately serving as a cathode/anode) are contaminated by sputtered material from the previous pulse which influences the time-evolution of the discharge parameters.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Contributions to Plasma Physics

  • ISSN

    0863-1042

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    51

  • Číslo periodika v rámci svazku

    2

  • Stát vydavatele periodika

    DE - Spolková republika Německo

  • Počet stran výsledku

    9

  • Strana od-do

    237-245

  • Kód UT WoS článku

    000288610800020

  • EID výsledku v databázi Scopus