Energy Resolved Ion Mass Spectroscopy of the Pulsed Magnetron Discharge

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F12%3A10133150" target="_blank" >RIV/00216208:11320/12:10133150 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf12/WDS12_214_f2_Kluson.pdf" target="_blank" >http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf12/WDS12_214_f2_Kluson.pdf</a>

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Energy Resolved Ion Mass Spectroscopy of the Pulsed Magnetron Discharge

Popis výsledku v původním jazyce

The main parameter, which determines the properties of the growing thin film, is energy delivered to the surface by impacting particles. In this paper, we concern with the energy distributions of ions in the magnetron discharge designated for the deposition of Ti layers. The measurements were performed by means of a combined energy and mass analyzer. This device enables measurement of energy distributions of individual species. It is well known that in magnetron sputtering different regimes of the discharge excitation can lead to substantial distinctions of the plasma parameters. Here we focused on the pulsed regime. Energies of dominant ions 40Ar+ and 48Ti+ measured in time synchronization with voltage pulses on the cathode are reported. There is a significant abundance of particles with higher energies in the distribution of Ti ions. On the contrary, the energy of Ar ions corresponds to the value of plasma potential. This observation is explained by different ways of origin of these

Název v anglickém jazyce

Energy Resolved Ion Mass Spectroscopy of the Pulsed Magnetron Discharge

Popis výsledku anglicky

The main parameter, which determines the properties of the growing thin film, is energy delivered to the surface by impacting particles. In this paper, we concern with the energy distributions of ions in the magnetron discharge designated for the deposition of Ti layers. The measurements were performed by means of a combined energy and mass analyzer. This device enables measurement of energy distributions of individual species. It is well known that in magnetron sputtering different regimes of the discharge excitation can lead to substantial distinctions of the plasma parameters. Here we focused on the pulsed regime. Energies of dominant ions 40Ar+ and 48Ti+ measured in time synchronization with voltage pulses on the cathode are reported. There is a significant abundance of particles with higher energies in the distribution of Ti ions. On the contrary, the energy of Ar ions corresponds to the value of plasma potential. This observation is explained by different ways of origin of these

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

WDS'12 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media

ISBN

978-80-7378-225-2

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

81-86

Název nakladatele

Matfyzpress

Místo vydání

Praha

Místo konání akce

Praha

Datum konání akce

29. 5. 2012

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—