Multifunctional MoOx and MoOxNy films with 2.5 < x < 3.0 and y < 0.2 prepared using controlled reactive deep oscillation magnetron sputtering

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F21%3A10439454" target="_blank" >RIV/00216208:11320/21:10439454 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/49777513:23520/21:43960045

Výsledek na webu

<a href="https://verso.is.cuni.cz/pub/verso.fpl?fname=obd_publikace_handle&handle=hin54lxyTI" target="_blank" >https://verso.is.cuni.cz/pub/verso.fpl?fname=obd_publikace_handle&handle=hin54lxyTI</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2020.138442" target="_blank" >10.1016/j.tsf.2020.138442</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Multifunctional MoOx and MoOxNy films with 2.5 < x < 3.0 and y < 0.2 prepared using controlled reactive deep oscillation magnetron sputtering

Popis výsledku v původním jazyce

Reactive deep oscillation magnetron sputtering with a pulsed reactive gas flow control and to-substrate reactive gas injection into the high-density plasma in front of the sputtered Mo target was used for a low-temperature (&lt; 120 degrees C) preparation of MoOx and MoOxNy films with 2.5 &lt; x &lt; 3.0 and y &lt; 0.2. We explain the advantages of this deposition technique, allowing us to control smoothly and reproducibly the film composition and thus the film structure and properties. Special attention is paid to the strong effect of slightly decreasing x in MoOx films and slightly increasing y in MoOxNy films on their optical and electrical properties which are directly related to varying electronic structure of the films. We discuss possible applications of these films in the field of solar cells, organic electronic devices and lithium-ion batteries.

Název v anglickém jazyce

Multifunctional MoOx and MoOxNy films with 2.5 < x < 3.0 and y < 0.2 prepared using controlled reactive deep oscillation magnetron sputtering

Popis výsledku anglicky

Reactive deep oscillation magnetron sputtering with a pulsed reactive gas flow control and to-substrate reactive gas injection into the high-density plasma in front of the sputtered Mo target was used for a low-temperature (&lt; 120 degrees C) preparation of MoOx and MoOxNy films with 2.5 &lt; x &lt; 3.0 and y &lt; 0.2. We explain the advantages of this deposition technique, allowing us to control smoothly and reproducibly the film composition and thus the film structure and properties. Special attention is paid to the strong effect of slightly decreasing x in MoOx films and slightly increasing y in MoOxNy films on their optical and electrical properties which are directly related to varying electronic structure of the films. We discuss possible applications of these films in the field of solar cells, organic electronic devices and lithium-ion batteries.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2021

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Svazek periodika

717

Číslo periodika v rámci svazku

Jan

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

9

Strana od-do

138442

Kód UT WoS článku

000604796900002

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85097180111