New Method for the Complete Optical Analysis of Thin Films Nonuniform in Optical Parameters

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F03%3A00008288" target="_blank" >RIV/00216224:14310/03:00008288 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/00216305:26210/03:PU40927 RIV/00177016:_____/03:#0000324

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

New Method for the Complete Optical Analysis of Thin Films Nonuniform in Optical Parameters

Popis výsledku v původním jazyce

In this paper, a new optical method for characterizing thin films exhibiting area nonuniformity in optical parameters is described. This method is based on interpreting the spectral dependences of the reflectance measured using the special experimental arrangement described in detail. Using this method, the distribution of both the optical parameters, i.e. the local thickness and local refractive index, describing the thin film studied can be determined along a large area of the substrate. It is shown that the method presented can be employed for determining strong nonuniformities in the optical parameters of the films studied. The method is illustrated through the optical analysis of strongly nonuniform thin films formed by a mixture of CN_x and SiO_ydeposited onto silicon single-crystal substrates.

Název v anglickém jazyce

New Method for the Complete Optical Analysis of Thin Films Nonuniform in Optical Parameters

Popis výsledku anglicky

In this paper, a new optical method for characterizing thin films exhibiting area nonuniformity in optical parameters is described. This method is based on interpreting the spectral dependences of the reflectance measured using the special experimental arrangement described in detail. Using this method, the distribution of both the optical parameters, i.e. the local thickness and local refractive index, describing the thin film studied can be determined along a large area of the substrate. It is shown that the method presented can be employed for determining strong nonuniformities in the optical parameters of the films studied. The method is illustrated through the optical analysis of strongly nonuniform thin films formed by a mixture of CN_x and SiO_ydeposited onto silicon single-crystal substrates.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2003

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Japanese Journal of Applied Physics

ISSN

0021-4922

e-ISSN

—

Svazek periodika

42

Číslo periodika v rámci svazku

7B

Stát vydavatele periodika

JP - Japonsko

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

4760-4765

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—