Omezení pechodového režimu pi pulzním magnetronovém naprašování
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00012968" target="_blank" >RIV/00216224:14310/05:00012968 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge
Popis výsledku v původním jazyce
A high-power pulsed-magnetron discharge (several kW/cm2)is described. It operates at pulse duration of the order of few ľs, signicantly shorter than in usual similar devices. The breakdown delay was reduced by using a low-current DC preionization. The study was performed for Cu target in Ar and He buer gases by optical emission spectroscopy and electrical measurements. Saturation magnetron current is reached in a few ľs which permits to shorten the pulse duration avoiding arc formation. Unusual high current density up to 10A/cm2 induces very fast transition toward the stable self-sputtering regime. High plasma density favours high ion ux to the substrate. Preliminary result on Cu deposit in trenches is reported.
Název v anglickém jazyce
Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge
Popis výsledku anglicky
A high-power pulsed-magnetron discharge (several kW/cm2)is described. It operates at pulse duration of the order of few ľs, signicantly shorter than in usual similar devices. The breakdown delay was reduced by using a low-current DC preionization. The study was performed for Cu target in Ar and He buer gases by optical emission spectroscopy and electrical measurements. Saturation magnetron current is reached in a few ľs which permits to shorten the pulse duration avoiding arc formation. Unusual high current density up to 10A/cm2 induces very fast transition toward the stable self-sputtering regime. High plasma density favours high ion ux to the substrate. Preliminary result on Cu deposit in trenches is reported.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GD202%2F03%2FH162" target="_blank" >GD202/03/H162: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2005
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Europhysics Letters
ISSN
0295-5075
e-ISSN
—
Svazek periodika
72
Číslo periodika v rámci svazku
3
Stát vydavatele periodika
FR - Francouzská republika
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
390-395
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—