Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Omezení pechodového režimu pi pulzním magnetronovém naprašování

Popis výsledku

Prezentace stabilního pulzního magnetronového výboje. Pro stabilizicaci depoziního procesu byla použita preionizace.

Klíčová slova

pulsed magnetronsputteringpreionization

Identifikátory výsledku

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge

  • Popis výsledku v původním jazyce

    A high-power pulsed-magnetron discharge (several kW/cm2)is described. It operates at pulse duration of the order of few ľs, signicantly shorter than in usual similar devices. The breakdown delay was reduced by using a low-current DC preionization. The study was performed for Cu target in Ar and He buer gases by optical emission spectroscopy and electrical measurements. Saturation magnetron current is reached in a few ľs which permits to shorten the pulse duration avoiding arc formation. Unusual high current density up to 10A/cm2 induces very fast transition toward the stable self-sputtering regime. High plasma density favours high ion ux to the substrate. Preliminary result on Cu deposit in trenches is reported.

  • Název v anglickém jazyce

    Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge

  • Popis výsledku anglicky

    A high-power pulsed-magnetron discharge (several kW/cm2)is described. It operates at pulse duration of the order of few ľs, signicantly shorter than in usual similar devices. The breakdown delay was reduced by using a low-current DC preionization. The study was performed for Cu target in Ar and He buer gases by optical emission spectroscopy and electrical measurements. Saturation magnetron current is reached in a few ľs which permits to shorten the pulse duration avoiding arc formation. Unusual high current density up to 10A/cm2 induces very fast transition toward the stable self-sputtering regime. High plasma density favours high ion ux to the substrate. Preliminary result on Cu deposit in trenches is reported.

Klasifikace

  • Druh

    Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2005

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Europhysics Letters

  • ISSN

    0295-5075

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    72

  • Číslo periodika v rámci svazku

    3

  • Stát vydavatele periodika

    FR - Francouzská republika

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    390-395

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus

Základní informace

Druh výsledku

Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

Jx

CEP

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

Rok uplatnění

2005