Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Rtg difúzní rozptyl od vrstevných chyb v CZ Si

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F06%3A00016658" target="_blank" >RIV/00216224:14310/06:00016658 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    X-ray diffuse scattering from stacking faults in Czochralski silicon

  • Popis výsledku v původním jazyce

    High resolution x-ray diffraction has been used to measure the reciprocal space maps of intensity distribution from the scattering on defects in silicon wafers after annealing processes. The displacement field around stacking faults and dislocation loopshas been calculated using the Burgers theory of elasticity. From these calculations a reciprocal space map of x-ray diffuse scattered intensity has been simulated. The type and size of the defects can be determined from a comparison of measured with simulated maps. The type of defects has been determined from the symmetry of measured reciprocal space maps, where higher intensity streaks corresponding to planar defects in {1 1 1} planes have been observed. Using the width of these higher intensity streaks and comparing measured and simulated maps, the radius of stacking faults with the Burgers vector a/3[1 1 1] in {1 1 1} planes was found to be 0.3-0.5 micrometers.

  • Název v anglickém jazyce

    X-ray diffuse scattering from stacking faults in Czochralski silicon

  • Popis výsledku anglicky

    High resolution x-ray diffraction has been used to measure the reciprocal space maps of intensity distribution from the scattering on defects in silicon wafers after annealing processes. The displacement field around stacking faults and dislocation loopshas been calculated using the Burgers theory of elasticity. From these calculations a reciprocal space map of x-ray diffuse scattered intensity has been simulated. The type and size of the defects can be determined from a comparison of measured with simulated maps. The type of defects has been determined from the symmetry of measured reciprocal space maps, where higher intensity streaks corresponding to planar defects in {1 1 1} planes have been observed. Using the width of these higher intensity streaks and comparing measured and simulated maps, the radius of stacking faults with the Burgers vector a/3[1 1 1] in {1 1 1} planes was found to be 0.3-0.5 micrometers.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2006

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Semicond. Sci. Technol.

  • ISSN

    0268-1242

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    21

  • Číslo periodika v rámci svazku

    3

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

    352-357

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus