Měření základní a vyšších harmonických frekvencí za účelem kontroly vf. reaktivního naprašování
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F08%3A00024835" target="_blank" >RIV/00216224:14310/08:00024835 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process
Popis výsledku v původním jazyce
A new method to control whether a radio-freguency (RF) reactive sputtering deposition processes runs in a pre-adjusted experimental conditions was proposed. The frequency spectrum of the cathode voltage and of the voltage on an uncompensated probe immersed in the plasma was measured and it was proved, that some of the harmonics are extremely sensitive markers of the transition between the metallic and the compound mode of the RF sputtering.
Název v anglickém jazyce
Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process
Popis výsledku anglicky
A new method to control whether a radio-freguency (RF) reactive sputtering deposition processes runs in a pre-adjusted experimental conditions was proposed. The frequency spectrum of the cathode voltage and of the voltage on an uncompensated probe immersed in the plasma was measured and it was proved, that some of the harmonics are extremely sensitive markers of the transition between the metallic and the compound mode of the RF sputtering.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GP202%2F08%2FP038" target="_blank" >GP202/08/P038: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology
ISBN
978-80-01-04030-0
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
1
Strana od-do
—
Název nakladatele
CVUT v Praze
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Praha
Datum konání akce
1. 1. 2008
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—