Precise measurement of thickness distribution of non-uniform thin films by imaging spectroscopic reflectometry
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F09%3A00030121" target="_blank" >RIV/00216224:14310/09:00030121 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/48399108:_____/09:#0000013 RIV/00216305:26210/09:PU83316
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Precise measurement of thickness distribution of non-uniform thin films by imaging spectroscopic reflectometry
Popis výsledku v původním jazyce
A new method of imaging spectroscopic photometry enabling us to perform the complete optical characterization of thin films exhibiting area non-uniformity in optical parameters is presented. An original imaging spectroscopic photometer operating in the reflection mode at normal incidence is used to apply this method. A CCD camera serves as a detector in this photometer. Therefore the spectral dependences of the reflectance of the films characterized are simultaneously measured in small areas of the films surface corresponding to the individual pixels of the CCD camera. These areas form a matrix along a relatively large part of the films surface. The spectral reflectance measured by the individual pixels of the CCD camera is treated separately using theformulae for the reflectance corresponding to the uniform thin films. Using these formulae it is possible to determine the values of the local thickness and local optical constants for every small area of the matrix.
Název v anglickém jazyce
Precise measurement of thickness distribution of non-uniform thin films by imaging spectroscopic reflectometry
Popis výsledku anglicky
A new method of imaging spectroscopic photometry enabling us to perform the complete optical characterization of thin films exhibiting area non-uniformity in optical parameters is presented. An original imaging spectroscopic photometer operating in the reflection mode at normal incidence is used to apply this method. A CCD camera serves as a detector in this photometer. Therefore the spectral dependences of the reflectance of the films characterized are simultaneously measured in small areas of the films surface corresponding to the individual pixels of the CCD camera. These areas form a matrix along a relatively large part of the films surface. The spectral reflectance measured by the individual pixels of the CCD camera is treated separately using theformulae for the reflectance corresponding to the uniform thin films. Using these formulae it is possible to determine the values of the local thickness and local optical constants for every small area of the matrix.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Proceedings of IMEKO XIX World Congress
ISBN
978-963-88410-0-1
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
—
Název nakladatele
IMEKO
Místo vydání
Lisabon
Místo konání akce
Lisabon
Datum konání akce
1. 1. 2009
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—