Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Precise measurement of thickness distribution of non-uniform thin films by imaging spectroscopic reflectometry

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F09%3A00030121" target="_blank" >RIV/00216224:14310/09:00030121 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/48399108:_____/09:#0000013 RIV/00216305:26210/09:PU83316

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Precise measurement of thickness distribution of non-uniform thin films by imaging spectroscopic reflectometry

  • Popis výsledku v původním jazyce

    A new method of imaging spectroscopic photometry enabling us to perform the complete optical characterization of thin films exhibiting area non-uniformity in optical parameters is presented. An original imaging spectroscopic photometer operating in the reflection mode at normal incidence is used to apply this method. A CCD camera serves as a detector in this photometer. Therefore the spectral dependences of the reflectance of the films characterized are simultaneously measured in small areas of the films surface corresponding to the individual pixels of the CCD camera. These areas form a matrix along a relatively large part of the films surface. The spectral reflectance measured by the individual pixels of the CCD camera is treated separately using theformulae for the reflectance corresponding to the uniform thin films. Using these formulae it is possible to determine the values of the local thickness and local optical constants for every small area of the matrix.

  • Název v anglickém jazyce

    Precise measurement of thickness distribution of non-uniform thin films by imaging spectroscopic reflectometry

  • Popis výsledku anglicky

    A new method of imaging spectroscopic photometry enabling us to perform the complete optical characterization of thin films exhibiting area non-uniformity in optical parameters is presented. An original imaging spectroscopic photometer operating in the reflection mode at normal incidence is used to apply this method. A CCD camera serves as a detector in this photometer. Therefore the spectral dependences of the reflectance of the films characterized are simultaneously measured in small areas of the films surface corresponding to the individual pixels of the CCD camera. These areas form a matrix along a relatively large part of the films surface. The spectral reflectance measured by the individual pixels of the CCD camera is treated separately using theformulae for the reflectance corresponding to the uniform thin films. Using these formulae it is possible to determine the values of the local thickness and local optical constants for every small area of the matrix.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BH - Optika, masery a lasery

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2009

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Proceedings of IMEKO XIX World Congress

  • ISBN

    978-963-88410-0-1

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

  • Název nakladatele

    IMEKO

  • Místo vydání

    Lisabon

  • Místo konání akce

    Lisabon

  • Datum konání akce

    1. 1. 2009

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku