Experimental study of hybrid PVD-PECVD process of metallic target sputtering in argon and acetylene

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F11%3A00049988" target="_blank" >RIV/00216224:14310/11:00049988 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Experimental study of hybrid PVD-PECVD process of metallic target sputtering in argon and acetylene

Popis výsledku v původním jazyce

Hybrid PVD-PECVD process of titanium sputtering in argon and acetylene atmosphere combines aspects of both conventional techniques: sputtering of titanium target (PVD) and acetylene as a source of carbon fragments polymerization (PECVD). It has been usedfor deposition of nanocomposite material consisting of nanocrystallites of titanium carbide embedded in hydrogenated carbon matrix with good mechanical properties. The aim of this contribution is to describe and understand basic processes influencing the deposition process of such films by comparing the behaviour of basic discharge parameters on acetylene supply flow. Hybrid sputtering driven by DC power alone and together with RF substrate bias is studied.

Název v anglickém jazyce

Experimental study of hybrid PVD-PECVD process of metallic target sputtering in argon and acetylene

Popis výsledku anglicky

Hybrid PVD-PECVD process of titanium sputtering in argon and acetylene atmosphere combines aspects of both conventional techniques: sputtering of titanium target (PVD) and acetylene as a source of carbon fragments polymerization (PECVD). It has been usedfor deposition of nanocomposite material consisting of nanocrystallites of titanium carbide embedded in hydrogenated carbon matrix with good mechanical properties. The aim of this contribution is to describe and understand basic processes influencing the deposition process of such films by comparing the behaviour of basic discharge parameters on acetylene supply flow. Hybrid sputtering driven by DC power alone and together with RF substrate bias is studied.

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2011

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů