Application of higher harmonic frequencies generated in RF plasmas for monitoring of deposition processes

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F11%3A00050417" target="_blank" >RIV/00216224:14310/11:00050417 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Application of higher harmonic frequencies generated in RF plasmas for monitoring of deposition processes

Popis výsledku v původním jazyce

Higher harmonic frequencies of discharge voltage or current were analyzed and used for monitoring of various deposition techniques. It was shown that higher harmonics sensitively react on creation of a thin film, which can be used for simple monitoring of plasma processes.

Název v anglickém jazyce

Application of higher harmonic frequencies generated in RF plasmas for monitoring of deposition processes

Popis výsledku anglicky

Higher harmonic frequencies of discharge voltage or current were analyzed and used for monitoring of various deposition techniques. It was shown that higher harmonics sensitively react on creation of a thin film, which can be used for simple monitoring of plasma processes.

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA202%2F07%2F1669" target="_blank" >GA202/07/1669: Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2011

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů