Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Higher harmonic frequencies in a capacitively coupled plasma

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F21%3A00119328" target="_blank" >RIV/00216224:14310/21:00119328 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Higher harmonic frequencies in a capacitively coupled plasma

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Nonlinear nature of sheaths leads to nonlinear VA characteristics and generation of higher harmonic frequencies in capacitively coupled discharges. Higher harmonic frequencies are known to influence heating of electrons, especially at low pressure, and to be very sensitive to number of discharge parameters, which enables to use higher harmonics for monitoring of various deposition and etching processes. The presentation summarizes the topic of probe measurements of higher harmonic frequencies of plasma potential, nonlinear modeling of behaviour of higher harmonic frequencies in capacitive discharges and explanation of the mechanism which leads to the sensitive reaction of higher harmonics on the presence of a deposited or etched thin film.

  • Název v anglickém jazyce

    Higher harmonic frequencies in a capacitively coupled plasma

  • Popis výsledku anglicky

    Nonlinear nature of sheaths leads to nonlinear VA characteristics and generation of higher harmonic frequencies in capacitively coupled discharges. Higher harmonic frequencies are known to influence heating of electrons, especially at low pressure, and to be very sensitive to number of discharge parameters, which enables to use higher harmonics for monitoring of various deposition and etching processes. The presentation summarizes the topic of probe measurements of higher harmonic frequencies of plasma potential, nonlinear modeling of behaviour of higher harmonic frequencies in capacitive discharges and explanation of the mechanism which leads to the sensitive reaction of higher harmonics on the presence of a deposited or etched thin film.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2021

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů