Higher harmonic frequencies in a capacitively coupled plasma
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F21%3A00119328" target="_blank" >RIV/00216224:14310/21:00119328 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Higher harmonic frequencies in a capacitively coupled plasma
Popis výsledku v původním jazyce
Nonlinear nature of sheaths leads to nonlinear VA characteristics and generation of higher harmonic frequencies in capacitively coupled discharges. Higher harmonic frequencies are known to influence heating of electrons, especially at low pressure, and to be very sensitive to number of discharge parameters, which enables to use higher harmonics for monitoring of various deposition and etching processes. The presentation summarizes the topic of probe measurements of higher harmonic frequencies of plasma potential, nonlinear modeling of behaviour of higher harmonic frequencies in capacitive discharges and explanation of the mechanism which leads to the sensitive reaction of higher harmonics on the presence of a deposited or etched thin film.
Název v anglickém jazyce
Higher harmonic frequencies in a capacitively coupled plasma
Popis výsledku anglicky
Nonlinear nature of sheaths leads to nonlinear VA characteristics and generation of higher harmonic frequencies in capacitively coupled discharges. Higher harmonic frequencies are known to influence heating of electrons, especially at low pressure, and to be very sensitive to number of discharge parameters, which enables to use higher harmonics for monitoring of various deposition and etching processes. The presentation summarizes the topic of probe measurements of higher harmonic frequencies of plasma potential, nonlinear modeling of behaviour of higher harmonic frequencies in capacitive discharges and explanation of the mechanism which leads to the sensitive reaction of higher harmonics on the presence of a deposited or etched thin film.
Klasifikace
Druh
O - Ostatní výsledky
CEP obor
—
OECD FORD obor
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2021
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů