Revisiting particle dynamics in HiPIMS discharges. I. General effects
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F20%3A00114256" target="_blank" >RIV/00216224:14310/20:00114256 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://aip.scitation.org/doi/10.1063/5.0009378" target="_blank" >http://aip.scitation.org/doi/10.1063/5.0009378</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1063/5.0009378" target="_blank" >10.1063/5.0009378</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Revisiting particle dynamics in HiPIMS discharges. I. General effects
Popis výsledku v původním jazyce
A detailed experimental study of high power impulse magnetron sputtering processes is performed by time-resolved imaging of the ground state sputtered particles. New details related to the behavior of both neutral and singly ionized atoms are shown, as a result of separate treatment of the plasma-on and plasma-off time phases. In Paper I, the ion/neutral density redistribution in the ionization zone during sputtering is analyzed; the role of main discharge parameters, such as pulse repetition rate, pulse energy, etc., is discussed systematically. The time-resolved evolution of the ground state levels population for both sputtered neutrals and ions is also considered. In addition, propagation of the sputtered particles is analyzed using 2D density gradient diagrams calculated based on the measured particle density distributions. The results of this work are compared, when possible, to the data obtained previously [Britun et al., J. Appl. Phys. 117, 163302 (2015)].
Název v anglickém jazyce
Revisiting particle dynamics in HiPIMS discharges. I. General effects
Popis výsledku anglicky
A detailed experimental study of high power impulse magnetron sputtering processes is performed by time-resolved imaging of the ground state sputtered particles. New details related to the behavior of both neutral and singly ionized atoms are shown, as a result of separate treatment of the plasma-on and plasma-off time phases. In Paper I, the ion/neutral density redistribution in the ionization zone during sputtering is analyzed; the role of main discharge parameters, such as pulse repetition rate, pulse energy, etc., is discussed systematically. The time-resolved evolution of the ground state levels population for both sputtered neutrals and ions is also considered. In addition, propagation of the sputtered particles is analyzed using 2D density gradient diagrams calculated based on the measured particle density distributions. The results of this work are compared, when possible, to the data obtained previously [Britun et al., J. Appl. Phys. 117, 163302 (2015)].
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2020
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of applied physics
ISSN
0021-8979
e-ISSN
1089-7550
Svazek periodika
128
Číslo periodika v rámci svazku
4
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
14
Strana od-do
1-14
Kód UT WoS článku
000557312900001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85090005435