Complete optical characterization of imperfect hydrogenated amorphous silicon layers by spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F99%3A00002088" target="_blank" >RIV/00216224:14310/99:00002088 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Complete optical characterization of imperfect hydrogenated amorphous silicon layers by spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry
Popis výsledku v původním jazyce
In this paper the method based on interpreting the data measured within variable angle of incidence spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry is used for the complete optical analysis of hydrogenated amorphous silicon layers deposited onsilicon single crystal wafers. This method enables us to perform the analysis of these layers in a relatively wide spectral region because of both roughness and native oxide layer existing on the upper boundary of every silicon layer studied is respected at its analysis. The results obtained for a chosen sample of the hydrogenated amorphous silicon layer are presented.
Název v anglickém jazyce
Complete optical characterization of imperfect hydrogenated amorphous silicon layers by spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry
Popis výsledku anglicky
In this paper the method based on interpreting the data measured within variable angle of incidence spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry is used for the complete optical analysis of hydrogenated amorphous silicon layers deposited onsilicon single crystal wafers. This method enables us to perform the analysis of these layers in a relatively wide spectral region because of both roughness and native oxide layer existing on the upper boundary of every silicon layer studied is respected at its analysis. The results obtained for a chosen sample of the hydrogenated amorphous silicon layer are presented.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
1999
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Thin Solid Films
ISSN
0040-6090
e-ISSN
—
Svazek periodika
343-344
Číslo periodika v rámci svazku
1
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—