Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Complete optical characterization of imperfect hydrogenated amorphous silicon layers by spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F99%3A00002088" target="_blank" >RIV/00216224:14310/99:00002088 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Complete optical characterization of imperfect hydrogenated amorphous silicon layers by spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In this paper the method based on interpreting the data measured within variable angle of incidence spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry is used for the complete optical analysis of hydrogenated amorphous silicon layers deposited onsilicon single crystal wafers. This method enables us to perform the analysis of these layers in a relatively wide spectral region because of both roughness and native oxide layer existing on the upper boundary of every silicon layer studied is respected at its analysis. The results obtained for a chosen sample of the hydrogenated amorphous silicon layer are presented.

  • Název v anglickém jazyce

    Complete optical characterization of imperfect hydrogenated amorphous silicon layers by spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry

  • Popis výsledku anglicky

    In this paper the method based on interpreting the data measured within variable angle of incidence spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry is used for the complete optical analysis of hydrogenated amorphous silicon layers deposited onsilicon single crystal wafers. This method enables us to perform the analysis of these layers in a relatively wide spectral region because of both roughness and native oxide layer existing on the upper boundary of every silicon layer studied is respected at its analysis. The results obtained for a chosen sample of the hydrogenated amorphous silicon layer are presented.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    1999

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Thin Solid Films

  • ISSN

    0040-6090

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    343-344

  • Číslo periodika v rámci svazku

    1

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus