Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Elipsometrie při charakterizaci tenkých vrstev

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14330%2F05%3A00013302" target="_blank" >RIV/00216224:14330/05:00013302 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Ellipsometry in characterization of thin films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In this paper the principles of ellipsometry together with a description of important ellipsometric techniques are briefly presented. A general classification of the ellipsometric methods significant from the practical point of view is performed as well.Furthermore, the general principles of the optical characterization of thin film systems are introduced. Thus, the main steps for creating the structural models of the thin film systems are described together with classification of the mathematical formalism usable for deriving the formulae usable for the optical characterization of the system mentioned. The three significant dispersion models enabling us to express the spectral dependences of the optical constants of the amorphous dielectric and semiconductor thin films within the wide spectral region are also described, i.e. the Tauc-Lorentz model, Ferlauto et al. model and model based on parameterization of the density of electronic states are discussed. Three examples of the optical

  • Název v anglickém jazyce

    Ellipsometry in characterization of thin films

  • Popis výsledku anglicky

    In this paper the principles of ellipsometry together with a description of important ellipsometric techniques are briefly presented. A general classification of the ellipsometric methods significant from the practical point of view is performed as well.Furthermore, the general principles of the optical characterization of thin film systems are introduced. Thus, the main steps for creating the structural models of the thin film systems are described together with classification of the mathematical formalism usable for deriving the formulae usable for the optical characterization of the system mentioned. The three significant dispersion models enabling us to express the spectral dependences of the optical constants of the amorphous dielectric and semiconductor thin films within the wide spectral region are also described, i.e. the Tauc-Lorentz model, Ferlauto et al. model and model based on parameterization of the density of electronic states are discussed. Three examples of the optical

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA203%2F05%2F0524" target="_blank" >GA203/05/0524: Fotonická skla a amorfní vrstvy</a><br>

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2005

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Proceedings of the SREN 2005

  • ISBN

    80-223-2099-4

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    31

  • Strana od-do

    81-111

  • Název nakladatele

    Comenius University

  • Místo vydání

    Bratislava, Slovakia

  • Místo konání akce

    Florence, Italy

  • Datum konání akce

    2. 4. 2005

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku