Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Photostability of pulsed-laser-deposited AsxTe100-x (x=40, 50, 60) amorphous thin films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216275%3A25310%2F17%3A39910653" target="_blank" >RIV/00216275:25310/17:39910653 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1364/OL.42.001660" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1364/OL.42.001660</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1364/OL.42.001660" target="_blank" >10.1364/OL.42.001660</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Photostability of pulsed-laser-deposited AsxTe100-x (x=40, 50, 60) amorphous thin films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    AsxTe100-x amorphous thin films were fabricated by a pulsed laser deposition technique with the aim of finding photostable layers in as-deposited but preferably in relaxed (annealed) state. Photostability was studied in terms of the films&apos; stability of refractive index and bandgap under near-bandgap light irradiation. As40Te60 and As50Te50 layers were found to be photostable in both as-deposited as well as relaxed states. Moreover, As50Te50 layers present the lowest surface roughness. These characteristics make pulsed-laser-deposited As50Te50 thin films promising for applications in nonlinear optics.

  • Název v anglickém jazyce

    Photostability of pulsed-laser-deposited AsxTe100-x (x=40, 50, 60) amorphous thin films

  • Popis výsledku anglicky

    AsxTe100-x amorphous thin films were fabricated by a pulsed laser deposition technique with the aim of finding photostable layers in as-deposited but preferably in relaxed (annealed) state. Photostability was studied in terms of the films&apos; stability of refractive index and bandgap under near-bandgap light irradiation. As40Te60 and As50Te50 layers were found to be photostable in both as-deposited as well as relaxed states. Moreover, As50Te50 layers present the lowest surface roughness. These characteristics make pulsed-laser-deposited As50Te50 thin films promising for applications in nonlinear optics.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20506 - Coating and films

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA15-02634S" target="_blank" >GA15-02634S: Amorfní chalkogenidové tenké vrstvy: fotoindukované jevy</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2017

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Optics Letters

  • ISSN

    0146-9592

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    42

  • Číslo periodika v rámci svazku

    9

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    1660-1663

  • Kód UT WoS článku

    000400487700005

  • EID výsledku v databázi Scopus