Vytváření nanostruktur na Si(100) a GaAs(1 0 0) pomocí lokální anodické oxidace

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F06%3APU63612" target="_blank" >RIV/00216305:26210/06:PU63612 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Fabrication of nanostructures on Si(100) and GaAs(1 0 0) by local anodic oxidation

Popis výsledku v původním jazyce

Atomic force microscopes have become useful tools not only for observing surface morphology and nanostructure topography but also for fabrication of various nanostructures itself. In this paper, the application of AFM for fabrication of nanostructures bylocal anodic oxidation (LAO) of Si(1 0 0) and GaAs(1 0 0) surfaces is presented. A special attention is paid to finding relations between the size of oxide nanolines (height and half-width) and operational parameters as tip-sample voltage and tip writing speed. It was demonstrated that the formation of silicon oxide lines obeys the Cabrera-Mott theory, i.e. the height of the lines grow, linearly with tip-sample voltage and is inversely proportional to logarithm of tip writing speed. As for GaAs substrates, the oxide line height grows linearly with tip-sample voltage as well but LAO exhibits a certain deviation from this theory. It is shown that the selective chemical etching of Si or GaAs ultrathin films processed by LAO makes it possi

Název v anglickém jazyce

Fabrication of nanostructures on Si(100) and GaAs(1 0 0) by local anodic oxidation

Popis výsledku anglicky

Atomic force microscopes have become useful tools not only for observing surface morphology and nanostructure topography but also for fabrication of various nanostructures itself. In this paper, the application of AFM for fabrication of nanostructures bylocal anodic oxidation (LAO) of Si(1 0 0) and GaAs(1 0 0) surfaces is presented. A special attention is paid to finding relations between the size of oxide nanolines (height and half-width) and operational parameters as tip-sample voltage and tip writing speed. It was demonstrated that the formation of silicon oxide lines obeys the Cabrera-Mott theory, i.e. the height of the lines grow, linearly with tip-sample voltage and is inversely proportional to logarithm of tip writing speed. As for GaAs substrates, the oxide line height grows linearly with tip-sample voltage as well but LAO exhibits a certain deviation from this theory. It is shown that the selective chemical etching of Si or GaAs ultrathin films processed by LAO makes it possi

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Applied Surface Science

ISSN

0169-4332

e-ISSN

—

Svazek periodika

253

Číslo periodika v rámci svazku

5

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

2373-2378

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—