Kompletní optická charakterizace neuniformních SiOx tenkých vrstev pomocí zobrazovací spektroskopické reflektometrie

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F08%3APU75023" target="_blank" >RIV/00216305:26210/08:PU75023 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Complete optical characterization of non-uniform SiOx thin films using imaging spectroscopic reflectometry
Popis výsledku v původním jazyce
Complete optical characterization of SiOx films non-uniform in thickness is performed using imaging spectroscopic reflectometry (ISR). It is shown that by using this technique it is possible to determine the area distribution of the local thickness (areamap) of these films with arbitrary shape of this thickness non-uniformity. Furthermore, it is shown that the SiOx films studied do not exhibit the area non-uniformity in dispersion (material) parameters and optical constants.
Název v anglickém jazyce
Complete optical characterization of non-uniform SiOx thin films using imaging spectroscopic reflectometry
Popis výsledku anglicky
Complete optical characterization of SiOx films non-uniform in thickness is performed using imaging spectroscopic reflectometry (ISR). It is shown that by using this technique it is possible to determine the area distribution of the local thickness (areamap) of these films with arbitrary shape of this thickness non-uniformity. Furthermore, it is shown that the SiOx films studied do not exhibit the area non-uniformity in dispersion (material) parameters and optical constants.

Projekt
<a href="/cs/project/FT-TA3%2F142" target="_blank" >FT-TA3/142: Analýza optických vlastností solárních článků.</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)