Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F11%3APU92153" target="_blank" >RIV/00216305:26210/11:PU92153 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/48399108:_____/11:#0000015 RIV/00216224:14310/11:00050720

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry

Popis výsledku v původním jazyce

The combined optical method enabling us to perform the complete optical characterisation of weakly absorbing non-uniform thin films is described. This method is based on the combination of standard variable angle spectroscopic ellipsometry, standard spectroscopic reflectometry at near normal incidence and spectroscopic imaging reflectometry applied at normal incidence. The spectral dependences of the optical constants are determined using the non-imaging methods by using the dispersion model based on parametrisation of the density of electronic states. The local thickness distribution is then determined by imaging reflectometry. The method is illustrated by means of the complete optical characterisation of SiOxCyHz thin films.

Název v anglickém jazyce

Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry

Popis výsledku anglicky

The combined optical method enabling us to perform the complete optical characterisation of weakly absorbing non-uniform thin films is described. This method is based on the combination of standard variable angle spectroscopic ellipsometry, standard spectroscopic reflectometry at near normal incidence and spectroscopic imaging reflectometry applied at normal incidence. The spectral dependences of the optical constants are determined using the non-imaging methods by using the dispersion model based on parametrisation of the density of electronic states. The local thickness distribution is then determined by imaging reflectometry. The method is illustrated by means of the complete optical characterisation of SiOxCyHz thin films.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/FT-TA5%2F114" target="_blank" >FT-TA5/114: Vývoj technologie vytváření PECVD vrstev pro výrobu automobilové světelné techniky</a><br>

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2011

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Svazek periodika

519

Číslo periodika v rámci svazku

9

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000289174200067

EID výsledku v databázi Scopus

—