Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F21%3APR37525" target="_blank" >RIV/00216305:26210/21:PR37525 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/47677023:_____/21:N0000010

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45

Popis výsledku v původním jazyce

Realizace vysoce odrazných vrstev splňující požadavky na odrazivost ve vlnových délkách hluboké ultrafialové oblasti a to 213 nm nebo 248 nm. Vrstvy pro vlnovou délku 213 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů Al2O3 a SiO2. Vrstvy pro vlnovou délku 248 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů HfO2 a SiO2. Parametry odrazivosti dosahují hodnot R(213 nm) > 99,5 % , R(248 nm) > 98,9 %.

Název v anglickém jazyce

High reflection coating on the glass substrate within two specifications R >= 98,5% @ 248 nm for angle of incidence 45, and R >= 98% @ 213 nm for angle of incidence 45

Popis výsledku anglicky

Implementation of highly reflective layers fitting the requirements for reflectivity in the wavelengths of the deep ultraviolet region, namely 213 nm or 248 nm. The layers for the wavelength of 213 nm were prepared by magnetron sputtering technology using a combination of Al2O3 and SiO2 materials. The layers for the wavelength of 248 nm were prepared by magnetron sputtering using a combination of HfO2 and SiO2 materials. The reflectance parameters reach the values R (213 nm) > 99.5 %, R (248 nm) > 99.3 %.

Druh

G_funk - Funkční vzorek

CEP obor

—

OECD FORD obor

20506 - Coating and films

Projekt

<a href="/cs/project/FV40328" target="_blank" >FV40328: Realizace vrstevnatých systémů s požadovanými spektrálními závislostmi odrazivosti a propustnosti ve střední ultrafialové oblasti spektra</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2021

Kód důvěrnosti údajů

C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Interní identifikační kód produktu

MEO_DP0026_2021_GFUNK02

Číselná identifikace

182572

Technické parametry

Vysoceodrazná vrstva na substrátu fused silica splňující R>=99,3% @248 nm, a R>=98,9% @213 nm pro úhel dopadu 45.

Ekonomické parametry

Bude použito ve výrobě.

Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

—

IČO vlastníka výsledku

00216305

Název vlastníka

Vysoké učení technické v Brně

Stát vlastníka

CZ - Česká republika

Druh možnosti využití

N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)

Požadavek na licenční poplatek

—

Adresa www stránky s výsledkem

—