Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R>=98,5% @ 248 nm a R>=98% @ 213 nm pro úhel dopadu 45°.

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F47677023%3A_____%2F21%3AN0000010" target="_blank" >RIV/47677023:_____/21:N0000010 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/00216305:26210/21:PR37525

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R>=98,5% @ 248 nm a R>=98% @ 213 nm pro úhel dopadu 45°.

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Realizace vysoce odrazných vrstev splňující požadavky na odrazivost ve vlnových délkách hluboké ultrafialové oblasti a to 213 nm nebo 248 nm. Vrstvy pro vlnovou délku 213 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů Al2O3 a SiO2. Vrstvy pro vlnovou délku 248 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů HfO2 a SiO2. Parametry odrazivosti dosahují hodnot R(213 nm) > 99,5 % , R(248 nm) > 98,9 %.

  • Název v anglickém jazyce

    High reflection coating on the glass substrate within two specifications R>=98,5% @ 248 nm for angle of incidence 45°, and R>=98% @ 213 nm for angle of incidence 45°

  • Popis výsledku anglicky

    Implementation of highly reflective layers fitting the requirements for reflectivity in the wavelengths of the deep ultraviolet region, namely 213 nm or 248 nm. The layers for the wavelength of 213 nm were prepared by magnetron sputtering technology using a combination of Al2O3 and SiO2 materials. The layers for the wavelength of 248 nm were prepared by magnetron sputtering using a combination of HfO2 and SiO2 materials. The reflectance parameters reach the values R (213 nm)> 99.5%, R (248 nm)> 99.3%.

Klasifikace

  • Druh

    G<sub>funk</sub> - Funkční vzorek

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20506 - Coating and films

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/FV40328" target="_blank" >FV40328: Realizace vrstevnatých systémů s požadovanými spektrálními závislostmi odrazivosti a propustnosti ve střední ultrafialové oblasti spektra</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2021

  • Kód důvěrnosti údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Interní identifikační kód produktu

    MEO_DP0026_2021_GFUNK02

  • Číselná identifikace

  • Technické parametry

    Vysoceodrazná vrstva na substrátu fused silica splňující R>=99,3% @ 248 nm, a R>=98,9% @ 213 nm pro úhel dopadu 45°.

  • Ekonomické parametry

    Bude použito ve výrobě.

  • Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

  • IČO vlastníka výsledku

    47677023

  • Název vlastníka

    Meopta - optika, s.r.o.

  • Stát vlastníka

    CZ - Česká republika

  • Druh možnosti využití

    N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)

  • Požadavek na licenční poplatek

    N - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek

  • Adresa www stránky s výsledkem