Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Metody pasivace povrchů fotovoltaických solárních článků.

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F05%3APU51938" target="_blank" >RIV/00216305:26220/05:PU51938 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Metody pasivace povrchů fotovoltaických solárních článků.

  • Popis výsledku v původním jazyce

    When talking about surface passivation techniques of photovoltaic solar cells silicon nitrid (SiN) is the most widely used material. One important feature of this is the thermal stability during the deposition. Another improvement of this parameter is possible by utilization of own substrate on which the SiO2 layer is created. Two methods of surface passivation will be described in this article. The first Plasma-Enhanced Chemical-Vapour Deposition system used for SiN deposition and the second creattingthermally grown oxid on Si surface will be disscussed. There will be shown that very good thermal stability is possible by combination of both SiN and SiO2. Due to this the recombination in all the volume and on the Si surface is reduced. This leads to higher efficiency of solar cell itself.

  • Název v anglickém jazyce

    Methods of photovoltaic solar cells surface passivation.

  • Popis výsledku anglicky

    When talking about surface passivation techniques of photovoltaic solar cells silicon nitrid (SiN) is the most widely used material. One important feature of this is the thermal stability during the deposition. Another improvement of this parameter is possible by utilization of own substrate on which the SiO2 layer is created. Two methods of surface passivation will be described in this article. The first Plasma-Enhanced Chemical-Vapour Deposition system used for SiN deposition and the second creattingthermally grown oxid on Si surface will be disscussed. There will be shown that very good thermal stability is possible by combination of both SiN and SiO2. Due to this the recombination in all the volume and on the Si surface is reduced. This leads to higher efficiency of solar cell itself.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2005

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Elektrotechnika a informatika 2005

  • ISBN

    80-7043-375-2

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    11-14

  • Název nakladatele

    Fakulta elektrotechnická, Západočeská univerzita v Plzni

  • Místo vydání

    Plzeň

  • Místo konání akce

    Nečtiny

  • Datum konání akce

    2. 11. 2005

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    CST - Celostátní akce

  • Kód UT WoS článku