Reaktivní magnetronové naprašování pro pasivaci solárních článků

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F06%3APU65139" target="_blank" >RIV/00216305:26220/06:PU65139 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Reactive Magnetron Sputtering for Passivation of Solar Cells

Popis výsledku v původním jazyce

We use magnetron sputtering to create of passivation films on the surface of photovoltaic solar cells. For the passivation layer created by this technology is characteristic the high deposition rate with relatively precise layer thickness control.. By reactive magnetron sputtering we deposited the materials currently used in the photovoltaic industry, the SiN (Silicon Nitrid) and SiO2, next the AlN and Al2O3. The aim of work is evaluation of both surface recombination and optical properties of this layers and their comparison with standard solar cells made by Solartec company (Czech republic.

Název v anglickém jazyce

Reactive Magnetron Sputtering for Passivation of Solar Cells

Popis výsledku anglicky

We use magnetron sputtering to create of passivation films on the surface of photovoltaic solar cells. For the passivation layer created by this technology is characteristic the high deposition rate with relatively precise layer thickness control.. By reactive magnetron sputtering we deposited the materials currently used in the photovoltaic industry, the SiN (Silicon Nitrid) and SiO2, next the AlN and Al2O3. The aim of work is evaluation of both surface recombination and optical properties of this layers and their comparison with standard solar cells made by Solartec company (Czech republic.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

IMAPS CS International Conference 2006, Proceedings

ISBN

80-214-3246-2

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

526-529

Název nakladatele

nakl. Z. Novotný

Místo vydání

NEUVEDEN

Místo konání akce

Brno

Datum konání akce

14. 9. 2006

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—