Pasivační vrstvy solárních článků vytvářené reaktivním magnetronovým naprašováním

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F06%3APU59352" target="_blank" >RIV/00216305:26220/06:PU59352 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Pasivační vrstvy solárních článků vytvářené reaktivním magnetronovým naprašováním

Popis výsledku v původním jazyce

Depozice antireflexní a pasivační vrstvy patří k jednomu z nejdůležitějších kroků při výrobě fotovoltaických článků. Vytváří antireflexní vrstvu, která zabraňuje pronikání nežádoucích složek světelného záření do substrátu. Pasivace také redukuje poruchyna křemíkovém povrchu a tím ovlivňuje výsledné rekombinačí parametry celého článku. V současném fotovoltaickém průmyslu je pro povrchovou pasivaci nejpoužívanějším materiálem plasmaticky nanášený nitrid křemíku (SiNx). V naší práci se zabýváme depozicí různých typů pasivačních vrstev na zadní strany budoucích solárních článků (SiNx, Si3N4, SiO2, Al2O3 a AlN) pomocí reaktivního magnetronového naprašování.. Pasivační vrstvy se deponují v plazmochemickém prostředí působením procesních plynů. Systém je charakteristický nízkým tlakem reakčních směsí a poměrně nízkými depozičními teplotami (do 200°C). Cílem práce je charakterizace vyrobených

Název v anglickém jazyce

Passivation layers of solar cells by means of reactive magnetron sputtering created

Popis výsledku anglicky

Antireflection and passivation coating deposition is one of most important steps of photovoltaic cells production. The antireflection coating averting of light undesirable component penetrate in the silicon substrate. Passivation layer reduce defect on the silicon surface and the recombination parameters are improve. Present, for photovoltaic industry is silicon nitride the most of materials used. In our work we deal with deposition of variously type passivation layers (SiNx, Si3N4, SiO2, Al2O3 and AlN)on the back side of silicon solar cells by means of reactive magnetron sputtering.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

2.česká fotovoltaická konference

ISBN

80-239-7361

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

1-3

Název nakladatele

Czech RE Agency

Místo vydání

Rožnov pod Radhoštěm

Místo konání akce

hotel Myslivna

Datum konání akce

12. 6. 2006

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—