Nitridové vrstvy pro pasivaci krystalických solárních článků deponované reaktivním magnetronovým naprašováním

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F06%3APU63195" target="_blank" >RIV/00216305:26220/06:PU63195 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Reactive magnetron sputtering nitride layer for passivation of crystalline silicon solar cells
Popis výsledku v původním jazyce
Reactive magnetron sputter deposition brings high deposition rate with a possibility to control the layer thickness with comparatively high precision. We deposited the currently used material in the photovoltaic industry - silicon nitride passivation layer. The aim of work was evaluation of both front side and back side surface recombinations and optical properties of sputtered layers and they comparison with passivation layers on standard solar cells made by Solartec company (Czech republic).
Název v anglickém jazyce
Reactive magnetron sputtering nitride layer for passivation of crystalline silicon solar cells
Popis výsledku anglicky
Reactive magnetron sputter deposition brings high deposition rate with a possibility to control the layer thickness with comparatively high precision. We deposited the currently used material in the photovoltaic industry - silicon nitride passivation layer. The aim of work was evaluation of both front side and back side surface recombinations and optical properties of sputtered layers and they comparison with passivation layers on standard solar cells made by Solartec company (Czech republic).

Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)