Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Transport náboje a šum v niob-oxidových a tantalových kondenzátorech

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F06%3APU63882" target="_blank" >RIV/00216305:26220/06:PU63882 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Charge Carriers Transport and Noise in Niobium Oxide and Tantalum Capacitors

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The NbO and Ta capacitor active region quality assessment is based on the evaluation of VA and noise characteristics and theirs temperature dependences. A physical model of a solid niobium and tantalum capacitor is based upon the metal-insulator-semiconductor (MIS) structure. For the normal mode and low electric field the current transport is described by the Poole-Frenkel mechanism and the current noise spectral density is given by the superposition of shot and g-r noise. For the high electric field the current transport is described by tunnelling and the current noise spectral density is 1/f type. Quantum transition diagram describing these mechanisms is shown. The leakage current temperature dependence for the low electric field gives the deep levelactivation energy Ea = 0.4 eV.

  • Název v anglickém jazyce

    Charge Carriers Transport and Noise in Niobium Oxide and Tantalum Capacitors

  • Popis výsledku anglicky

    The NbO and Ta capacitor active region quality assessment is based on the evaluation of VA and noise characteristics and theirs temperature dependences. A physical model of a solid niobium and tantalum capacitor is based upon the metal-insulator-semiconductor (MIS) structure. For the normal mode and low electric field the current transport is described by the Poole-Frenkel mechanism and the current noise spectral density is given by the superposition of shot and g-r noise. For the high electric field the current transport is described by tunnelling and the current noise spectral density is 1/f type. Quantum transition diagram describing these mechanisms is shown. The leakage current temperature dependence for the low electric field gives the deep levelactivation energy Ea = 0.4 eV.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA102%2F05%2F2095" target="_blank" >GA102/05/2095: Zdroje šumu v polovodičových materiálech a součástkách</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2006

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    EDS '06 IMAPS CS International Conference Proceedings

  • ISBN

    80-214-3246-2

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    10

  • Strana od-do

    154-163

  • Název nakladatele

    Ing. Zdeněk Novotný CSc.

  • Místo vydání

    Brno, ČR

  • Místo konání akce

    Brno

  • Datum konání akce

    14. 9. 2006

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku