Transport náboje a šum v niob-oxidových a tantalových kondenzátorech
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F06%3APU63882" target="_blank" >RIV/00216305:26220/06:PU63882 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Charge Carriers Transport and Noise in Niobium Oxide and Tantalum Capacitors
Popis výsledku v původním jazyce
The NbO and Ta capacitor active region quality assessment is based on the evaluation of VA and noise characteristics and theirs temperature dependences. A physical model of a solid niobium and tantalum capacitor is based upon the metal-insulator-semiconductor (MIS) structure. For the normal mode and low electric field the current transport is described by the Poole-Frenkel mechanism and the current noise spectral density is given by the superposition of shot and g-r noise. For the high electric field the current transport is described by tunnelling and the current noise spectral density is 1/f type. Quantum transition diagram describing these mechanisms is shown. The leakage current temperature dependence for the low electric field gives the deep levelactivation energy Ea = 0.4 eV.
Název v anglickém jazyce
Charge Carriers Transport and Noise in Niobium Oxide and Tantalum Capacitors
Popis výsledku anglicky
The NbO and Ta capacitor active region quality assessment is based on the evaluation of VA and noise characteristics and theirs temperature dependences. A physical model of a solid niobium and tantalum capacitor is based upon the metal-insulator-semiconductor (MIS) structure. For the normal mode and low electric field the current transport is described by the Poole-Frenkel mechanism and the current noise spectral density is given by the superposition of shot and g-r noise. For the high electric field the current transport is described by tunnelling and the current noise spectral density is 1/f type. Quantum transition diagram describing these mechanisms is shown. The leakage current temperature dependence for the low electric field gives the deep levelactivation energy Ea = 0.4 eV.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA102%2F05%2F2095" target="_blank" >GA102/05/2095: Zdroje šumu v polovodičových materiálech a součástkách</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
EDS '06 IMAPS CS International Conference Proceedings
ISBN
80-214-3246-2
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
10
Strana od-do
154-163
Název nakladatele
Ing. Zdeněk Novotný CSc.
Místo vydání
Brno, ČR
Místo konání akce
Brno
Datum konání akce
14. 9. 2006
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—