RTS šum v submikronových součástkách

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F07%3APU70494" target="_blank" >RIV/00216305:26220/07:PU70494 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
RTS noise in submicron devices
Popis výsledku v původním jazyce
Low frequency noise of Si MOSFET, GaN/AlGaN and InGaAs/InAlAs heterostructure devices was measured, given by 1/f noise and RTS noise components. RTS noise voltage signal was analysed by means of zero cross method and in most samples revealed almost constant spectral density of crossing rate fluctuation, although non-Poisson mechanism of charge carrier capture and emission was observed in the InGaAs sample, resulting in pulse length correlation and periodical crossing rate modulation.
Název v anglickém jazyce
RTS noise in submicron devices
Popis výsledku anglicky
Low frequency noise of Si MOSFET, GaN/AlGaN and InGaAs/InAlAs heterostructure devices was measured, given by 1/f noise and RTS noise components. RTS noise voltage signal was analysed by means of zero cross method and in most samples revealed almost constant spectral density of crossing rate fluctuation, although non-Poisson mechanism of charge carrier capture and emission was observed in the InGaAs sample, resulting in pulse length correlation and periodical crossing rate modulation.

Projekt
<a href="/cs/project/GA102%2F05%2F2095" target="_blank" >GA102/05/2095: Zdroje šumu v polovodičových materiálech a součástkách</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)