Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Šum RTS v Si MOSFET a GaN/AlGaN HFET

Popis výsledku

Low frequency noise of Si n-MOSFET and GaN/AlGaN HFET devices was measured in 10 uHz to 100 kHz range, given by 1/f noise and RTS noise components. RTS noise voltage signal was analysed by means of zero cross method in 1 ms to 100 s windows and noise spectral density of crossing events was found almost constant in the 10-5 to 103 Hz frequency range in all samples. This indicates that there is no 1/f fluctuation of crossing rate given by trap characteristics, although charge carrier transport mechanismsgive rise to quite different 1/f noise levels in Si and GaN devices. Statistical analysis of carrier capture and emission events duration revealed departure from exponential distribution in some samples, but any correlation among successive pulses wasn'tobvious.

Klíčová slova

GaNGaN/AlGaNHFETMOSFET1/f noiseRTS noise

Identifikátory výsledku

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    RTS Noise in Si MOSFETs and GaN/AlGaN HFETs

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Low frequency noise of Si n-MOSFET and GaN/AlGaN HFET devices was measured in 10 uHz to 100 kHz range, given by 1/f noise and RTS noise components. RTS noise voltage signal was analysed by means of zero cross method in 1 ms to 100 s windows and noise spectral density of crossing events was found almost constant in the 10-5 to 103 Hz frequency range in all samples. This indicates that there is no 1/f fluctuation of crossing rate given by trap characteristics, although charge carrier transport mechanismsgive rise to quite different 1/f noise levels in Si and GaN devices. Statistical analysis of carrier capture and emission events duration revealed departure from exponential distribution in some samples, but any correlation among successive pulses wasn'tobvious.

  • Název v anglickém jazyce

    RTS Noise in Si MOSFETs and GaN/AlGaN HFETs

  • Popis výsledku anglicky

    Low frequency noise of Si n-MOSFET and GaN/AlGaN HFET devices was measured in 10 uHz to 100 kHz range, given by 1/f noise and RTS noise components. RTS noise voltage signal was analysed by means of zero cross method in 1 ms to 100 s windows and noise spectral density of crossing events was found almost constant in the 10-5 to 103 Hz frequency range in all samples. This indicates that there is no 1/f fluctuation of crossing rate given by trap characteristics, although charge carrier transport mechanismsgive rise to quite different 1/f noise levels in Si and GaN devices. Statistical analysis of carrier capture and emission events duration revealed departure from exponential distribution in some samples, but any correlation among successive pulses wasn'tobvious.

Klasifikace

  • Druh

    Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2008

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    WSEAS Transactions on Electronics

  • ISSN

    1109-9445

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    4

  • Číslo periodika v rámci svazku

    9

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus

Základní informace

Druh výsledku

Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

Jx

CEP

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

Rok uplatnění

2008