Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Variabilni horizontalni tyristor jako ESD ochrana

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F08%3APU78861" target="_blank" >RIV/00216305:26220/08:PU78861 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Variable Lateral Silicon Controlled Rectifier as an ESD Protection

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The Variable lateral Silicon Controlled Rectifier (VLSCR) is a SCR based structure with the possibility to tune I-V snapback characteristics. This effect is important for an ESD (electrostatic discharge) protection design. The ESD protection structures act as a protection of integrated circuits against parasitic electrostatic discharge. Among often used structures belong structures having snapback type of I-V characteristic. Typical is a gate-grounded NMOS transistor [3] or a SCR [3]. This text is dealing with the VLSCR structure which enables I-V snap-back characteristics tuning according to the application demand. Simulated technology was CMOS very high voltage (VHV Integrated Circuits). Measurement was done in BiCMOS process.

  • Název v anglickém jazyce

    Variable Lateral Silicon Controlled Rectifier as an ESD Protection

  • Popis výsledku anglicky

    The Variable lateral Silicon Controlled Rectifier (VLSCR) is a SCR based structure with the possibility to tune I-V snapback characteristics. This effect is important for an ESD (electrostatic discharge) protection design. The ESD protection structures act as a protection of integrated circuits against parasitic electrostatic discharge. Among often used structures belong structures having snapback type of I-V characteristic. Typical is a gate-grounded NMOS transistor [3] or a SCR [3]. This text is dealing with the VLSCR structure which enables I-V snap-back characteristics tuning according to the application demand. Simulated technology was CMOS very high voltage (VHV Integrated Circuits). Measurement was done in BiCMOS process.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2008

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    WSEAS Transactions on Electronics

  • ISSN

    1109-9445

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    5

  • Číslo periodika v rámci svazku

    8

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    10

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus