Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Detection and localization of defects in monocrystalline silicon solar cell

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F10%3APU83905" target="_blank" >RIV/00216305:26220/10:PU83905 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Detection and localization of defects in monocrystalline silicon solar cell

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Near-surface defects in solar cell wafer have undesirable influence upon device properties, as its efficiency and lifetime. When reverse-bias voltage is applied to the wafer, a magnitude of electric signals from defects can be measured electronically, but the localization of defects is difficult using classical optical far-field methods. Therefore, the paper introduces a novel combination of electric and optical methods showing promise of being useful in detection and localization of defects with resolution of 250nm using near-field nondestructive characterization techniques. The results of mapped topography, local surface reflection, and local light to electric energy conversion measurement in areas with small defects strongly support the developmentand further evaluation of the technique.

  • Název v anglickém jazyce

    Detection and localization of defects in monocrystalline silicon solar cell

  • Popis výsledku anglicky

    Near-surface defects in solar cell wafer have undesirable influence upon device properties, as its efficiency and lifetime. When reverse-bias voltage is applied to the wafer, a magnitude of electric signals from defects can be measured electronically, but the localization of defects is difficult using classical optical far-field methods. Therefore, the paper introduces a novel combination of electric and optical methods showing promise of being useful in detection and localization of defects with resolution of 250nm using near-field nondestructive characterization techniques. The results of mapped topography, local surface reflection, and local light to electric energy conversion measurement in areas with small defects strongly support the developmentand further evaluation of the technique.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA102%2F08%2F1474" target="_blank" >GA102/08/1474: Lokální optická a elektrická charakterizace optoelektronických struktur s nanometrickým rozlišením</a><br>

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2010

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Advances in Optical Technologies

  • ISSN

    1687-6393

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    2010

  • Číslo periodika v rámci svazku

    805325

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus