Electron Transport in Tantalum Nanolayers: Low Temperature Characteristics
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F10%3APU88344" target="_blank" >RIV/00216305:26220/10:PU88344 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Electron Transport in Tantalum Nanolayers: Low Temperature Characteristics
Popis výsledku v původním jazyce
The leakage current value for the various temperatures and applied voltage are frequently used as the reliability indicator for tantalum capacitors. Leakage current provides the information on the insulating layer thickness, its homogeneity and the number of defects in the tested sample. The leakage current is a result of the random process of charge carrier transport and its DC component gives then information about the first statistical moment of this process. Capacitor structure can be in the first approximation considered as an ideal metal-insulator-semiconductor (MIS) structure. The low temperature measurements of VA characteristics are compared for the tantalum capacitors with manganese dioxide cathode and tantalum capacitors with conducting polymer cathode. Different behavior was observed in normal mode between these two technologies. Leakage current decreases with decreasing temperature for capacitors with MnO2 cathode while for capacitors with conducting polymer cathode the le
Název v anglickém jazyce
Electron Transport in Tantalum Nanolayers: Low Temperature Characteristics
Popis výsledku anglicky
The leakage current value for the various temperatures and applied voltage are frequently used as the reliability indicator for tantalum capacitors. Leakage current provides the information on the insulating layer thickness, its homogeneity and the number of defects in the tested sample. The leakage current is a result of the random process of charge carrier transport and its DC component gives then information about the first statistical moment of this process. Capacitor structure can be in the first approximation considered as an ideal metal-insulator-semiconductor (MIS) structure. The low temperature measurements of VA characteristics are compared for the tantalum capacitors with manganese dioxide cathode and tantalum capacitors with conducting polymer cathode. Different behavior was observed in normal mode between these two technologies. Leakage current decreases with decreasing temperature for capacitors with MnO2 cathode while for capacitors with conducting polymer cathode the le
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Electron Transport in Tantalum Nanolayers: Low Temperature Characteristics
ISBN
978-1-4244-8555-0
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
—
Název nakladatele
IEEE Explore Digital Library
Místo vydání
Berlin
Místo konání akce
Berlin
Datum konání akce
13. 9. 2010
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—