Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Activation Energy of RTS Noise

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F11%3APU90163" target="_blank" >RIV/00216305:26220/11:PU90163 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Activation Energy of RTS Noise

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Low frequency noise was measured in silicon MOSFET and GaN and InGaAs based HFET devices with special emphasis on the RTS noise. The RTS (Random Telegraph Signal) dependence on the biasing conditions and temperature was analyzed in order to obtain new information regarding production technology. From the time dependence of the RTS noise voltage the mean time of charge carriers capture and emission by traps in the gate oxide layer was determined as a function of applied gate and drain voltage or electronconcentration and then several important trap parameters, such as activation energy and position in the channel could be estimated.

  • Název v anglickém jazyce

    Activation Energy of RTS Noise

  • Popis výsledku anglicky

    Low frequency noise was measured in silicon MOSFET and GaN and InGaAs based HFET devices with special emphasis on the RTS noise. The RTS (Random Telegraph Signal) dependence on the biasing conditions and temperature was analyzed in order to obtain new information regarding production technology. From the time dependence of the RTS noise voltage the mean time of charge carriers capture and emission by traps in the gate oxide layer was determined as a function of applied gate and drain voltage or electronconcentration and then several important trap parameters, such as activation energy and position in the channel could be estimated.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA102%2F08%2F0260" target="_blank" >GA102/08/0260: Nízkofrekvenční šum v submikronových MOSFET a HEMT strukturách</a><br>

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Radioengineering

  • ISSN

    1210-2512

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    20

  • Číslo periodika v rámci svazku

    1

  • Stát vydavatele periodika

    CZ - Česká republika

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus