Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

SEM a AFM studie morfologie tenkých vrstev tuhého roztoku SiC-AlN

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F13%3APU102932" target="_blank" >RIV/00216305:26220/13:PU102932 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    SEM a AFM studie morfologie tenkých vrstev tuhého roztoku SiC-AlN

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Cílem této studie bylo jednak vytvoření tenkých vrstev SiC/(SiC)(1-x)(AlN)x sublimační epitaxí polykrystalického zdroje (SiC)(1-x)(AlN)x a jednak jejich charakterizace pomocí skenovací elektronové mikroskopie a mikroskopie atomárních sil. Pro vznik vrstev byly definovány optimální podmínky sublimačního procesu. Vzniklé struktury mohou být použity jako substráty pro polovodičové součástky na bázi nitridů, tj. GaN, AlN a jejich slitin, pro výrobu tranzistorů s vysokou elektronovou mobilitou, či světelnýchzdrojů (LED a laserových diod) vyzařujících v modré a ultrafialové oblasti spektra. Výsledky analýzy pomocí SEM a AFM ukázaly, že již při teplotě 2300 K je možné pomocí sublimační epitaxe vytvořit tenké vrstvy nitridu hliníku a jeho tuhých roztoků.

  • Název v anglickém jazyce

    SEM and AFM study of thin film SiC-AlN solid solution morphology

  • Popis výsledku anglicky

    The paper bring results of SiC/(SiC)(1-x)(AlN)x thin films manufacturing by sublimation epitaxy of the polycrystalline source of (SiC)1-x(AlN)x. Their characterization by scanning electron microscopy and atomic force microscopy. was also provided, and optimal conditions of sublimation process were defined. These structures could be used as substrate for design of semiconductor devices on the basis of nitrides, including gallium nitride, aluminum nitride and their alloys. The results of SEM and AFM analysis shown, that the temperatures of 2300 K is sufficient to obtain aluminium nitrate thin films and also its solid solutions.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2013

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Jemná mechanika a optika

  • ISSN

    0447-6441

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    58

  • Číslo periodika v rámci svazku

    3

  • Stát vydavatele periodika

    CZ - Česká republika

  • Počet stran výsledku

    3

  • Strana od-do

    75-77

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus