Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Morphology and structural investigation of aluminum nitride layers prepared by magnetron sputtering

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F13%3APU103517" target="_blank" >RIV/00216305:26220/13:PU103517 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Morphology and structural investigation of aluminum nitride layers prepared by magnetron sputtering

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Aluminum nitride thin films were obtained by magnetron sputtering of aluminum target. The films surface was studied by atomic force microscopy and scanning electron microscopy. Using of buffer nitridized layer on the substrate allowed the formation of perfect structure films. Lateral force atomic force microscopy was used to study the morphology heterogeneity. The dependence of films structure on the formation conditions has been defined. The objective of the study is to contribute to the improvement oftechnological process of dry etching and film deposition.

  • Název v anglickém jazyce

    Morphology and structural investigation of aluminum nitride layers prepared by magnetron sputtering

  • Popis výsledku anglicky

    Aluminum nitride thin films were obtained by magnetron sputtering of aluminum target. The films surface was studied by atomic force microscopy and scanning electron microscopy. Using of buffer nitridized layer on the substrate allowed the formation of perfect structure films. Lateral force atomic force microscopy was used to study the morphology heterogeneity. The dependence of films structure on the formation conditions has been defined. The objective of the study is to contribute to the improvement oftechnological process of dry etching and film deposition.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2013

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Proceedings of the 19th Conference Student EEICT 2013

  • ISBN

    978-80-214-4695-3

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    134-138

  • Název nakladatele

    Litera, Tabor 43a, 61200 Brno

  • Místo vydání

    Brno University of Technology

  • Místo konání akce

    Brno

  • Datum konání akce

    25. 4. 2013

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    CST - Celostátní akce

  • Kód UT WoS článku