Study of Dry Etching Process for Substrates Preparation
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F13%3APU105512" target="_blank" >RIV/00216305:26220/13:PU105512 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Study of Dry Etching Process for Substrates Preparation
Popis výsledku v původním jazyce
This study describes the process of sapphire and silicon carbide substrates preparation by dry plasma etching. Processed substrates was studied by interferometry to define the etch depth and by atomic force microscopy to study the morphology and statistical analysis of surface roughness before and after etching. This allowed determining the optimal conditions of the process.
Název v anglickém jazyce
Study of Dry Etching Process for Substrates Preparation
Popis výsledku anglicky
This study describes the process of sapphire and silicon carbide substrates preparation by dry plasma etching. Processed substrates was studied by interferometry to define the etch depth and by atomic force microscopy to study the morphology and statistical analysis of surface roughness before and after etching. This allowed determining the optimal conditions of the process.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/ED2.1.00%2F03.0072" target="_blank" >ED2.1.00/03.0072: Centrum senzorických, informačních a komunikačních systémů (SIX)</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2013
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
International Interdisciplinary PhD Workshop 2013
ISBN
978-80-214-4759-2
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
60-64
Název nakladatele
Brno University of Technology
Místo vydání
Brno
Místo konání akce
Brno
Datum konání akce
8. 9. 2013
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—