Surface roughness of aluminum nitride epilayers prepared by magnetron sputtering

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F14%3APU108877" target="_blank" >RIV/00216305:26220/14:PU108877 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Surface roughness of aluminum nitride epilayers prepared by magnetron sputtering
Popis výsledku v původním jazyce
AlN films were deposited by magnetron sputtering on the sapphire substrates. The dependence of films morphology on the substrate temperature is defined. The film is represented by well textured areas for higher substrate temperature during deposition process. Adhesion strength of particles and substrate depends on temperature. Increasing of temperature by heating the substrate is important parameter which intences the interaction in interface at the near-surface area.
Název v anglickém jazyce
Surface roughness of aluminum nitride epilayers prepared by magnetron sputtering
Popis výsledku anglicky
AlN films were deposited by magnetron sputtering on the sapphire substrates. The dependence of films morphology on the substrate temperature is defined. The film is represented by well textured areas for higher substrate temperature during deposition process. Adhesion strength of particles and substrate depends on temperature. Increasing of temperature by heating the substrate is important parameter which intences the interaction in interface at the near-surface area.

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2014
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)