Vlastnosti TIOx vrstev deponované za atmosférického tlaku

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00079392" target="_blank" >RIV/68378271:_____/05:00079392 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Vlastnosti TIOx vrstev deponované za atmosférického tlaku
Popis výsledku v původním jazyce
TIOx byli deponovány za použití RF bariérového pochodňového výboje, který pracuje za atmosférického tlaku a při nízké teplotě substrátu. Jako prekurzor byly použity páry Titanium (IV) isopropoxide Ti[OCH(CH.3)2]4 a jako substrát křemenné sklo.Depoziční podmínky při tvorbě vrstev byly u všech vzorků stejné. Byly zkoumány vlastnosti vrstev v závislosti na teplotě žíhání po depozici. U vrstev byla hodnocena tloušťka, anotvrdost, krystalinita vrstev metodou XRD difrakce a rychlost fotokatalytické degradace.
Název v anglickém jazyce
Properties of TIOx films deposited at atmosphere pressure
Popis výsledku anglicky
TiOx films were deposited on silica glass by RF discharge in atmosphere pressure at low substrate temperature. Some properties of the films were studied depending on annealing temperature after deposition. The thickness, nanohardness, crystallinity and speed of photocatalysis degradation were investigated.

Rok uplatnění
2005
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku
Progresívní a netradiční technologie povrchových úprav /2./
ISBN
80-239-6135-7
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
93-34
Název nakladatele
Česká společnost pro povrchové úpravy
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Brno
Datum konání akce
23. 11. 2005
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—

Podobné výsledky(10)