Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Diagnostika plazmatu během depozice tenkých vrstev založených na silanu

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F04%3APU46602" target="_blank" >RIV/00216305:26310/04:PU46602 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Plasma Diagnostic During Deposition Processes of Silane Based Thin Films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Our work deals with the identification of the intensive spectral lines and bands measured during the plasma deposition using the hexamethyldisiloxane (HMDSO) and the tetravinylsilane (TVS) as monomer. The deposition processes were carried out in a continual regime as well as in a pulsed regime with the varied relative pulse duration. At first, the pure monomers were used. Furthermore, tetravinylsilane was mixed in various ratios with oxygen, the CH4 + H2 gas mixture was added to hexamethyldisiloxane. WWe observed a lot of changes in intensity and character of spectra with increasing pulse duration, with increasing oxygen flow rate. Oxygen has an important role for the creation of various fragments and cyclic oligomers. In the next part of experiment,exhaust gas was investigated by gas-chromatography and mass spectrometry (GC-MS). Oligomers with complex structure were identified.

  • Název v anglickém jazyce

    Plasma Diagnostic During Deposition Processes of Silane Based Thin Films

  • Popis výsledku anglicky

    Our work deals with the identification of the intensive spectral lines and bands measured during the plasma deposition using the hexamethyldisiloxane (HMDSO) and the tetravinylsilane (TVS) as monomer. The deposition processes were carried out in a continual regime as well as in a pulsed regime with the varied relative pulse duration. At first, the pure monomers were used. Furthermore, tetravinylsilane was mixed in various ratios with oxygen, the CH4 + H2 gas mixture was added to hexamethyldisiloxane. WWe observed a lot of changes in intensity and character of spectra with increasing pulse duration, with increasing oxygen flow rate. Oxygen has an important role for the creation of various fragments and cyclic oligomers. In the next part of experiment,exhaust gas was investigated by gas-chromatography and mass spectrometry (GC-MS). Oligomers with complex structure were identified.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GD202%2F03%2FH162" target="_blank" >GD202/03/H162: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2004

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Czechoslovak Journal of Physics

  • ISSN

    0011-4626

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    54

  • Číslo periodika v rámci svazku

    C

  • Stát vydavatele periodika

    CZ - Česká republika

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

    1036-1041

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus