Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Depth profile of mechanical properties of plasma-polymerized tetravinylsilane films evaluated by cyclic nanoindentation

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F11%3APU96903" target="_blank" >RIV/00216305:26310/11:PU96903 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Depth profile of mechanical properties of plasma-polymerized tetravinylsilane films evaluated by cyclic nanoindentation

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Plasma-polymerized tetravinylsilane films deposited on silicon wafers by PECVD at different powers using pulsed plasma were analyzed by both typical conventional depth sensing and by cyclic nanoindentation. A comparative study of the two methods was carried out under reduced system drift. It was found that cyclic nanoindentation is a reproducible technique enabling reliable construction of the depth profile of mechanical properties to the same degree of accuracy as conventional nanoindentation but considerably faster. The Youngs modulus (7.9-17 GPa) and hardness (0.69-3.0 GPa) of films were controlled by the effective power (0.1-10 W). Conditions for appropriate depth analysis of mechanical properties at shallow depth and the limited applicability of the 10% rule are also discussed.

  • Název v anglickém jazyce

    Depth profile of mechanical properties of plasma-polymerized tetravinylsilane films evaluated by cyclic nanoindentation

  • Popis výsledku anglicky

    Plasma-polymerized tetravinylsilane films deposited on silicon wafers by PECVD at different powers using pulsed plasma were analyzed by both typical conventional depth sensing and by cyclic nanoindentation. A comparative study of the two methods was carried out under reduced system drift. It was found that cyclic nanoindentation is a reproducible technique enabling reliable construction of the depth profile of mechanical properties to the same degree of accuracy as conventional nanoindentation but considerably faster. The Youngs modulus (7.9-17 GPa) and hardness (0.69-3.0 GPa) of films were controlled by the effective power (0.1-10 W). Conditions for appropriate depth analysis of mechanical properties at shallow depth and the limited applicability of the 10% rule are also discussed.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Surface and Coatings Technology

  • ISSN

    0257-8972

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    205

  • Číslo periodika v rámci svazku

  • Stát vydavatele periodika

    CZ - Česká republika

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    470-474

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus