Pulsed Plasma Used to Control Properties of a-SiOC:H Alloys

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F12%3APU102050" target="_blank" >RIV/00216305:26310/12:PU102050 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Pulsed Plasma Used to Control Properties of a-SiOC:H Alloys

Popis výsledku v původním jazyce

Plasma polymer films were deposited from organosilicon monomers (hexamethyldisiloxane, vinyltriethoxysilane, and tetra-vinylsilane (pure or in a mixture with oxygen gas) by pulsed plasma at different power (0.05?40 W). The deposited materials in the formof hydrogenated amorphous carbon-silicon oxide (a-SiOC:H) alloy are discussed with respect to their chemical, optical, mechanical, and surface properties controlled by pulsed plasma.

Název v anglickém jazyce

Pulsed Plasma Used to Control Properties of a-SiOC:H Alloys

Popis výsledku anglicky

Plasma polymer films were deposited from organosilicon monomers (hexamethyldisiloxane, vinyltriethoxysilane, and tetra-vinylsilane (pure or in a mixture with oxygen gas) by pulsed plasma at different power (0.05?40 W). The deposited materials in the formof hydrogenated amorphous carbon-silicon oxide (a-SiOC:H) alloy are discussed with respect to their chemical, optical, mechanical, and surface properties controlled by pulsed plasma.

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů