Nonthermal tetravinylsilane plasma used for thin-film deposition: Plasma chemistry controls thin-film chemistry

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F21%3APU143001" target="_blank" >RIV/00216305:26310/21:PU143001 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/ppap.202100192" target="_blank" >https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/ppap.202100192</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.202100192" target="_blank" >10.1002/ppap.202100192</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Nonthermal tetravinylsilane plasma used for thin-film deposition: Plasma chemistry controls thin-film chemistry

Popis výsledku v původním jazyce

The power dependence of the plasma species in nonthermal tetravinylsilane plasmas used for thin-film deposition is investigated by mass spectrometry. Mass spectra analysis reveals the dominant carbon and silicon-containing species responsible for film growth. The deposition rate determined by in situ spectroscopic ellipsometry correlates with the flux of these species chemisorbed on the film surface if distinct sticking coefficients are taken into account. Then, the carbon to silicon ratio in the deposited film strongly correlates with the C/Si flux ratio for the various power-controlled plasmas. Similarly, the concentration of vinyl groups incorporated into the deposited film and the proportion of sp2 hybridization of the carbon network correlate with the fluxes of the respective plasma species.

Název v anglickém jazyce

Nonthermal tetravinylsilane plasma used for thin-film deposition: Plasma chemistry controls thin-film chemistry

Popis výsledku anglicky

The power dependence of the plasma species in nonthermal tetravinylsilane plasmas used for thin-film deposition is investigated by mass spectrometry. Mass spectra analysis reveals the dominant carbon and silicon-containing species responsible for film growth. The deposition rate determined by in situ spectroscopic ellipsometry correlates with the flux of these species chemisorbed on the film surface if distinct sticking coefficients are taken into account. Then, the carbon to silicon ratio in the deposited film strongly correlates with the C/Si flux ratio for the various power-controlled plasmas. Similarly, the concentration of vinyl groups incorporated into the deposited film and the proportion of sp2 hybridization of the carbon network correlate with the fluxes of the respective plasma species.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10403 - Physical chemistry

Projekt

<a href="/cs/project/GA16-09161S" target="_blank" >GA16-09161S: Syntéza multifunkčních plazmových polymerů pro polymerní kompozity bez rozhraní</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2021

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

1612-8869

Svazek periodika

neuveden

Číslo periodika v rámci svazku

e2100192

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

13

Strana od-do

1-13

Kód UT WoS článku

000734997800001

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85122012747