Aluminum nitride based piezoelectric harvesters
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F19%3APU137887" target="_blank" >RIV/00216305:26620/19:PU137887 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Aluminum nitride based piezoelectric harvesters
Popis výsledku v původním jazyce
This work demonstrates the fabrication of simple of AlN-based piezoelectric energy harvesters (PEH), made of cantilevers with thin films prepared by ion beam-assisted deposition. The preferentially (001) orientated AlN thin films have exceptionally high piezoelectric coefficients of (7.33 +/- 0.08) pC.N-1. The fabrication of PEH was done using only three lithography steps, employing conventional silicon substrate with precise control of the cantilever and it's mass thicknesses. The AlN deposition was done at a temperature of approximate to 330 degrees C which makes it compatible with complementary metal oxide semiconductor technology (CMOS). The PEH cantilever deflection and efficiency were characterized using both laser interferometry and a vibration shaker, respectively. This technology could become useful for future CMOS-based energy harvesters integrated on chip with circuits.
Název v anglickém jazyce
Aluminum nitride based piezoelectric harvesters
Popis výsledku anglicky
This work demonstrates the fabrication of simple of AlN-based piezoelectric energy harvesters (PEH), made of cantilevers with thin films prepared by ion beam-assisted deposition. The preferentially (001) orientated AlN thin films have exceptionally high piezoelectric coefficients of (7.33 +/- 0.08) pC.N-1. The fabrication of PEH was done using only three lithography steps, employing conventional silicon substrate with precise control of the cantilever and it's mass thicknesses. The AlN deposition was done at a temperature of approximate to 330 degrees C which makes it compatible with complementary metal oxide semiconductor technology (CMOS). The PEH cantilever deflection and efficiency were characterized using both laser interferometry and a vibration shaker, respectively. This technology could become useful for future CMOS-based energy harvesters integrated on chip with circuits.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
—
OECD FORD obor
20704 - Energy and fuels
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
19th International Conference on Micro and Nanotechnology for Power Generation and Energy Conversion Applications (Power MEMS) Conference Proceedings
ISBN
978-1-7281-5638-5
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
1-4
Název nakladatele
IEEE
Místo vydání
NEW YORK
Místo konání akce
Krakow
Datum konání akce
2. 12. 2019
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
000576757900079