Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Aluminum nitride based piezoelectric harvesters

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F19%3APU137887" target="_blank" >RIV/00216305:26620/19:PU137887 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Aluminum nitride based piezoelectric harvesters

  • Popis výsledku v původním jazyce

    This work demonstrates the fabrication of simple of AlN-based piezoelectric energy harvesters (PEH), made of cantilevers with thin films prepared by ion beam-assisted deposition. The preferentially (001) orientated AlN thin films have exceptionally high piezoelectric coefficients of (7.33 +/- 0.08) pC.N-1. The fabrication of PEH was done using only three lithography steps, employing conventional silicon substrate with precise control of the cantilever and it's mass thicknesses. The AlN deposition was done at a temperature of approximate to 330 degrees C which makes it compatible with complementary metal oxide semiconductor technology (CMOS). The PEH cantilever deflection and efficiency were characterized using both laser interferometry and a vibration shaker, respectively. This technology could become useful for future CMOS-based energy harvesters integrated on chip with circuits.

  • Název v anglickém jazyce

    Aluminum nitride based piezoelectric harvesters

  • Popis výsledku anglicky

    This work demonstrates the fabrication of simple of AlN-based piezoelectric energy harvesters (PEH), made of cantilevers with thin films prepared by ion beam-assisted deposition. The preferentially (001) orientated AlN thin films have exceptionally high piezoelectric coefficients of (7.33 +/- 0.08) pC.N-1. The fabrication of PEH was done using only three lithography steps, employing conventional silicon substrate with precise control of the cantilever and it's mass thicknesses. The AlN deposition was done at a temperature of approximate to 330 degrees C which makes it compatible with complementary metal oxide semiconductor technology (CMOS). The PEH cantilever deflection and efficiency were characterized using both laser interferometry and a vibration shaker, respectively. This technology could become useful for future CMOS-based energy harvesters integrated on chip with circuits.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20704 - Energy and fuels

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2019

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    19th International Conference on Micro and Nanotechnology for Power Generation and Energy Conversion Applications (Power MEMS) Conference Proceedings

  • ISBN

    978-1-7281-5638-5

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    1-4

  • Název nakladatele

    IEEE

  • Místo vydání

    NEW YORK

  • Místo konání akce

    Krakow

  • Datum konání akce

    2. 12. 2019

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku

    000576757900079