Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Advances in FIB-SEM Analysis of TSV and Solder Bumps—Approaching Higher Precision, Throughput, and Comprehensiveness

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F01733214%3A_____%2F14%3A00000006" target="_blank" >RIV/01733214:_____/14:00000006 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Advances in FIB-SEM Analysis of TSV and Solder Bumps—Approaching Higher Precision, Throughput, and Comprehensiveness

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Cross sections of large Through Silicon Vias (TSV) and solder bumps are often prepared using the Focused Ion Beam (FIB). The high current Xe plasma ion source allows fast and precise target preparation of TSV with small diameter. Solder bumps can be accessed due to the high milling rate too. However, thehigh current milling by plasma FIB causes the worsening ofthe milled surface quality. An optimized FIB scanning stratégy accompanied with the novel rocking stage for the sample tilting during the milling has been developed for the plasma FIB. Whole milling process is observed by the Scanning Electron Microscopy (SEM). Time to prepare a cross section is accelerated and the excellent quality is suitable for subsequent failure analysis. Also important is proper sample cleaving before FIB milling. Using an accurate method to cleave the sample prior to FIB preparation further reduces the overall sample preparation time. The high quality cross sections prepared using this new method are ready not only for SEM but also for EDX and EBSD analysis, either 2D or 3D, when combined with FIB slicing. Broadening the analysis to these techniques increases the obtainable information, allowing the arrangement of materials and their crystalline structure to be studied in a detail.

  • Název v anglickém jazyce

    Advances in FIB-SEM Analysis of TSV and Solder Bumps—Approaching Higher Precision, Throughput, and Comprehensiveness

  • Popis výsledku anglicky

    Cross sections of large Through Silicon Vias (TSV) and solder bumps are often prepared using the Focused Ion Beam (FIB). The high current Xe plasma ion source allows fast and precise target preparation of TSV with small diameter. Solder bumps can be accessed due to the high milling rate too. However, thehigh current milling by plasma FIB causes the worsening ofthe milled surface quality. An optimized FIB scanning stratégy accompanied with the novel rocking stage for the sample tilting during the milling has been developed for the plasma FIB. Whole milling process is observed by the Scanning Electron Microscopy (SEM). Time to prepare a cross section is accelerated and the excellent quality is suitable for subsequent failure analysis. Also important is proper sample cleaving before FIB milling. Using an accurate method to cleave the sample prior to FIB preparation further reduces the overall sample preparation time. The high quality cross sections prepared using this new method are ready not only for SEM but also for EDX and EBSD analysis, either 2D or 3D, when combined with FIB slicing. Broadening the analysis to these techniques increases the obtainable information, allowing the arrangement of materials and their crystalline structure to be studied in a detail.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2014

  • Kód důvěrnosti údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    ISTFA 2014: Proceedings of the 40th International Symposium for Testing and Failure Analysis

  • ISBN

    9781627080743

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    7

  • Strana od-do

    136-142

  • Název nakladatele

    ASM International

  • Místo vydání

    Houston

  • Místo konání akce

    Houston

  • Datum konání akce

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku