Final Product Specification for FRTI3031 <110> 625 ?m or 525 ?m Polished Wafers

Kód výsledku v IS VaVaI

RIV/26821532:_____/13:#0000056 - isvavai.cz

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Final Product Specification for FRTI3031 <110> 625 ?m or 525 ?m Polished Wafers

Popis výsledku v původním jazyce

Polished Silicon wafer with crystallographic orientation <110>. Wafer diameter 150 mm, Czochralski growth method, On-orientation, <110> 0.0° ? 0.5°, slightly boron doped, flatness <1 um GTIR, total thickness variation < 1 um, bow and warp < 20 um.

Název v anglickém jazyce

Final Product Specification for FRTI3031 <110> 625 ?m or 525 ?m Polished Wafers

Popis výsledku anglicky

Polished Silicon wafer with crystallographic orientation <110>. Wafer diameter 150 mm, Czochralski growth method, On-orientation, <110> 0.0° ? 0.5°, slightly boron doped, flatness <1 um GTIR, total thickness variation < 1 um, bow and warp < 20 um.

Druh

G_funk - Funkční vzorek

CEP obor

JJ - Ostatní materiály

OECD FORD obor

—

Projekt

FR-TI3/031: Výzkum a vývoj technologií výroby nových typů křemíkových desek

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2013

Kód důvěrnosti údajů

C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Interní identifikační kód produktu

FRTI3031 <110>

Číselná identifikace

—

Technické parametry

CZ Si, 150 mm, <110> 0.0° ? 0.5°, flat 47.5 mm On <1-11> ? 0.3°, flatness <1 um GTIR, total thickness variation < 1 um, bow and warp < 20 um, Oi 26.0 ? 36.0 ppma, R 0.3 - 1.0 ohmcm.

Ekonomické parametry

Cena: MAX. 30 USD/Si wafer.

Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

—

IČO vlastníka výsledku

26821532

Název vlastníka

ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o., právní nástupce

Stát vlastníka

CZ - Česká republika

Druh možnosti využití

A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Požadavek na licenční poplatek

A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

Adresa www stránky s výsledkem

—