Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Final Product Specification for 200 mm AEPI W814AXX Silicon Epitaxial Wafers

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F26821532%3A_____%2F13%3A%230000057" target="_blank" >RIV/26821532:_____/13:#0000057 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Final Product Specification for 200 mm AEPI W814AXX Silicon Epitaxial Wafers

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Polished Silicon wafer with Advanced Epitaxial Layer (AEPI). Wafer diameter 200 mm. Localized Light Scatterers (LLS) 100% of Wafer - max. 30 Counts per wafer >0.30 um by laser scan, Localized Light Scatterers (LLS) 90% of Wafer - max. 20 Counts per wafer>0.30 um by laser scan, thickness variability max. 2%, resistivity variability max. 4%.

  • Název v anglickém jazyce

    Final Product Specification for 200 mm AEPI W814AXX Silicon Epitaxial Wafers

  • Popis výsledku anglicky

    Polished Silicon wafer with Advanced Epitaxial Layer (AEPI). Wafer diameter 200 mm. Localized Light Scatterers (LLS) 100% of Wafer - max. 30 Counts per wafer >0.30 um by laser scan, Localized Light Scatterers (LLS) 90% of Wafer - max. 20 Counts per wafer>0.30 um by laser scan, thickness variability max. 2%, resistivity variability max. 4%.

Klasifikace

  • Druh

    G<sub>funk</sub> - Funkční vzorek

  • CEP obor

    JJ - Ostatní materiály

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/FR-TI3%2F031" target="_blank" >FR-TI3/031: Výzkum a vývoj technologií výroby nových typů křemíkových desek</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2013

  • Kód důvěrnosti údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Interní identifikační kód produktu

    AEPIW814AXX

  • Číselná identifikace

  • Technické parametry

    200 mm AEPI, LLS 100% of wafer - max. 30 >0.30 um, LLS 90% of wafer - max. 20 >0.30 um, TTV AEPI max. 2%, RRV AEPI max. 4%.

  • Ekonomické parametry

    Cana max. 100USD/200 mm AEPI desku

  • Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

  • IČO vlastníka výsledku

    26821532

  • Název vlastníka

    ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o., právní nástupce

  • Stát vlastníka

    CZ - Česká republika

  • Druh možnosti využití

    A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

  • Požadavek na licenční poplatek

    A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

  • Adresa www stránky s výsledkem