Předoperační mytí z hlediska minimalizace kontaminace SiD v průběhu vysokoteplotní fosforové difúze
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F27711170%3A_____%2F12%3A%230000011" target="_blank" >RIV/27711170:_____/12:#0000011 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Předoperační mytí z hlediska minimalizace kontaminace SiD v průběhu vysokoteplotní fosforové difúze
Popis výsledku v původním jazyce
Čistota povrchu Si desek před vysokoteplotní fosforovou dif[zí hraje důležitou roli pro finální elektronickou kvalitu vytvářených struktur. V rámci řešení projektu byl odladěn přesný postup dávkového sekvenčního mytí Si substrátů a následných oplachů v DEMI vodě s použitím chemikálií HF, HCl, H2O2 a H2O (respektive jejich kombinací) a následné procedury sušení Si desek.
Název v anglickém jazyce
Procedure for Si wafer pre-cleaning before high temperature phosphorus diffusion to reduce the substrate contamination
Popis výsledku anglicky
Surface purity of Si wafers before the process of high temperature phosphorus diffusion plays quite important role for the final electronic quality of produced structures. In the frame of the project accurate procedure for the dose cleaning process of Sisubstrates (and following DEMI water rinsing) with chemicals such as HF, HCl, H2O2 and H2O (and their combination) and following drying procedure of Si wafers.
Klasifikace
Druh
N<sub>metC</sub> - Metodiky certifikované oprávněným orgánem
CEP obor
CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/TA01020972" target="_blank" >TA01020972: Modifikace jednotlivých technologických zařízení dávkových procesů pro zvýšení výtěžnosti výroby vysoce účinných křemíkových solárních článků s využitím modelovacích softwarů technologických procesů CFD-ACE+ a Flow Simulation.</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2012
Kód důvěrnosti údajů
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Údaje specifické pro druh výsledku
Interní identifikační kód produktu
SVMVTFD_SOL_01
Číslo předpisu
A-2012-12-05-SVMVTFD_SOL_01
Technické parametry
Aplikací modifikované metodiky "RCA cleaning" bylo dosaženo zvýšení čistoty povrchu Si desek ověřenou měřením doby života minoritních nosičů proudu metodou MWPCD a rovněž zvýšením konverzní účinnosti testovaných solárních článků.
Ekonomické parametry
Aplikací modifikované metodiky "RCA cleaning" bylo dosaženo zajištění vyšší čistoty povrchu Si desek a úspory spotřeby jednotlivých chemikálií, což vede ke snížení nákladů na výrobu plovodičových struktur, resp. solárních článků a celkové vyšší robustnosti procesu.
Označení certifikačního orgánu
SVCS Process Innovation s.r.o., Na Potůčkách 163, Valašské Meziříčí 757 01
Datum certifikace
—
Způsoby využití výsledku
C - Výsledek je využíván bez omezení okruhu uživatelů