Prototyp reaktoru pro fosforovou difúzi 5-ti a 6-ti palcových Si desek včetně všech modulárních komponent (stínící prvky, křemenné lodičky, injektory a extraktor)
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F27711170%3A_____%2F12%3A%230000014" target="_blank" >RIV/27711170:_____/12:#0000014 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Prototyp reaktoru pro fosforovou difúzi 5-ti a 6-ti palcových Si desek včetně všech modulárních komponent (stínící prvky, křemenné lodičky, injektory a extraktor)
Popis výsledku v původním jazyce
Vytvoření prototypu reaktoru pro fosforovou difúzi 5-ti a 6-ti palcových Si desek včetně všech modulárních komponent (stínící prvky, křemenné lodičky, injektory a extraktor) pro dosažení homogenity požadovaného vrstvového odporu difundované n+ vrstvy a koncentračního profilu fosforu po ploše jednotlivých desek v celézpracovávané dávce.
Název v anglickém jazyce
A reactor prototype for phosphorus diffusion of 5 nad 6 inched Si wafors including all components (baffles, quartz boats, injector and extractor)
Popis výsledku anglicky
Evaluation of a reactor prototype for phosphorus diffusion of 5 nad 6 inched Si wafers including all components (baffles, quartz boats, injector and extractor) for achieving an uniformity of required sheet resistivity of difused layers and concentrated phosphorus profile at particular wafers in whole dose.
Klasifikace
Druh
G<sub>prot</sub> - Prototyp
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/TA01020972" target="_blank" >TA01020972: Modifikace jednotlivých technologických zařízení dávkových procesů pro zvýšení výtěžnosti výroby vysoce účinných křemíkových solárních článků s využitím modelovacích softwarů technologických procesů CFD-ACE+ a Flow Simulation.</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2012
Kód důvěrnosti údajů
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Údaje specifické pro druh výsledku
Interní identifikační kód produktu
SVRPD_01
Číselná identifikace
—
Technické parametry
Homogenita vrstvového odporu n+ vrstvy a koncentračního profilu fosforu při dávkovém zpracování Si substrátů po ploše desek i podél reaktoru s homogenitou vrstvového odporu (mapovanou bezkontaktní sondou přes celou plochu Si desek) lepší než 3%. Zvýšenípočtu substrátů v jedné procesní dávce várce ze 100 na 300 substrátů/várka při zachování dosažených zlepšených parametrů homogenity vrstvového odporu n+ vrstvy a koncentračního profilu fosforu při dávkovém zpracování Si substrátů po ploše desek i podél reaktoru.
Ekonomické parametry
V případě implementace ověřené technolopie pro fosforovou difúzi včetně všech jeho modulárních komponent na strukturách křemíkových solárních článků do vysokoteplotních pecí SVFur společně s metodikami pro přípravu substrátů a vytváření těchto vrstev sepředpokládá 12% nárůst prodeje v segmentu difuzních reaktorů pro dopování fosforem společností SVCS Process Innovation s.r.o.
Kategorie aplik. výsledku dle nákladů
—
IČO vlastníka výsledku
27711170
Název vlastníka
SVCS Process Innovation s.r.o.
Stát vlastníka
CZ - Česká republika
Druh možnosti využití
P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence
Požadavek na licenční poplatek
Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek
Adresa www stránky s výsledkem
—