Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

AFM Study of Al2O3 Thin Films Prepared by Plasma Oxidation

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13430%2F00%3A00000560" target="_blank" >RIV/44555601:13430/00:00000560 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    AFM Study of Al2O3 Thin Films Prepared by Plasma Oxidation

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The surface structure features of Al2O3 thin films, which were prepared by plasma oxidation of aluminium thin films, were observed using atomic force microscopy (AFM). The alumina thin films were prepared at different sample bias voltages for demonstration of the preparation condition influence. It was found that the value of sample bias voltage plays an indispensable role for surface structure of the alumina film. Structural properties of the Al2O3 films could be affected during preparation due to plasma particle bombardment. The thickness of Al, Al-Al2O3, and Al-Al2O3-Al structures was derived from the AFM images of surfaces with a mechanical scratch.

  • Název v anglickém jazyce

    AFM Study of Al2O3 Thin Films Prepared by Plasma Oxidation

  • Popis výsledku anglicky

    The surface structure features of Al2O3 thin films, which were prepared by plasma oxidation of aluminium thin films, were observed using atomic force microscopy (AFM). The alumina thin films were prepared at different sample bias voltages for demonstration of the preparation condition influence. It was found that the value of sample bias voltage plays an indispensable role for surface structure of the alumina film. Structural properties of the Al2O3 films could be affected during preparation due to plasma particle bombardment. The thickness of Al, Al-Al2O3, and Al-Al2O3-Al structures was derived from the AFM images of surfaces with a mechanical scratch.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/OC%20527.50" target="_blank" >OC 527.50: Studium tenkých polymerních vrstev pomocí AFM a rozvoj metod diagnostiky plazmatu.</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2000

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Le Vide: science, technique et application

  • ISSN

    1266-0167

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

  • Číslo periodika v rámci svazku

    295

  • Stát vydavatele periodika

    XX - osoby bez státní příslušnosti

  • Počet stran výsledku

    3

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus